德国Osiris CHEMIXX CMP 30pm型CMP后清洗机图片

本图片来自微纳(香港)科技有限公司提供的德国Osiris CHEMIXX CMP 30pm型CMP后清洗机,型号为CHEMIXX CMP 30pmOsiris半导体行业专用仪器设备,产地为欧洲德国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的德国Osiris AFIXX 20a型全自动临时键合机德国Osiris桌面型匀胶机等仪器。
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微纳(香港)科技有限公司

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金牌6年

营业执照已认证

品牌性质: 一般经销商
厂商荣誉:

仪器核心参数

清洗方法: 湿法清洗
产地类别: 进口
设备类型: 单晶圆清洗
晶圆尺寸: 8寸/12寸
相关技术: 化学液清洗、PVA刷清洗、兆声清洗
尺寸: 1200mm*850mm*1900mm
适用制程、应用范围: 半导体工艺制程环节中清洗工艺
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