本图片来自深圳市蓝星宇电子科技有限公司提供的日本理音 RION 粒子计数器 KS-20F,型号为KS-20F的半导体行业专用仪器设备,产地为亚洲日本,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的Bruker台阶仪DektakXT、日本JEOL原子级透射电子显微镜JEM-ARM200F等仪器。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司是仪器信息网的金牌,合作关系长达5年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
蓝星宇客服电话:400-860-5168转4527,请放心选择!
查看 日本理音 RION 粒子计数器 KS-20F 信息
仪器核心参数
查看 日本理音 RION 粒子计数器 KS-20F 参数
同类推荐
看了null的用户又看了
激光干涉光刻机
Shibuya SLA2021 激光剥离加工机
多光子聚合3D纳米光刻机
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机
MCML-100/MCML-120A SERIES 无掩膜数字光刻机 Digit
POLOS® BEAM桌面无掩模光刻机
Nikon光刻机
Nikon光刻机
奥地利SmartNIL紫外纳米压印机EVG7200
奥地利EVG键合机EVG520IS
奥地利EVG键合机EVG510
Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i
EVG720紫外纳米压印机
美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统
EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能)
奥地利EVG 紫外光刻机EVG620
紫外光刻机
德国海德堡 MPO100双光子激光直写/三维光刻3D打印/无掩膜灰度直写光刻
德国海德堡 NanoFrazor Explore热探针三维光刻3D纳米结构激光直写光刻机
德国海德堡 NanoFrazor Scholar热探针科研型3D纳米结构激光直写光刻机
Nikon光刻机
日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
Nikon光刻机
奥地利SmartNIL紫外纳米压印机EVG7200
奥地利EVG键合机EVG520IS
奥地利EVG键合机EVG510
Keyence 远心激光刻印机MD-T
奥地利EVG单面/双面光刻机EVG620(带有压印功能)
奥地利EVG掩膜光刻机EVG610
奥地利EVG 单面/双面光刻机(带有压印功能)EVG620
奥地利EVG紫外纳米压印EVG7200
牛津镀膜机PECVD Plasma system 133
牛津镀膜机PECVD/刻蚀机PlasmaLab System100
牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000
美国AMAT镀膜机PECVD:P5000
美国Neocera脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD
晶片,硅片,晶圆
RKD 激光开封机RA-880
Annealsys 高温退火炉AS-ONE
德国 Finetch_lambda 倒装焊接机
RION液体光学颗粒度仪KS-41B
日本理音Rion液体光学颗粒度仪KS-19F
Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i
德国MBE-Komponenten 分子束外延系统OCTOPLUS 400
德国UnitemP真空快速退火炉RTP-150
Bruker台阶仪DektakXT
BRUKER三维光学轮廓仪ContourX-200
EVG720紫外纳米压印机
EVG紫外纳米压印HERCULES NIL
日本RION液体光学颗粒度仪KS-42B/42BF
无掩膜激光直写光刻机-MicroWriter ML3
SPS 光刻机 POLOS µ(LCD)
无掩膜直写光刻机4寸POLOS
激光直写光刻机Maskless lithography
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (基础型)
无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (增强型)
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (旗舰型)
无掩模光刻机/直写光刻机beam-6
无掩膜激光直写纳米光刻机
电子束光刻机
电子束光刻机
电子束光刻机
无掩膜光刻机
手动光刻机
UV Litho-S 无掩膜光刻机
BIO L+ 无掩膜光刻机
μMLA无掩模光刻机
MLA 300 无掩模光刻机
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻机
MPO100双光子聚合直写光刻机
VPG 300 DI 无掩模直接成像仪光刻机
无掩模光刻机/直写光刻机beam-6
无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (旗舰型)
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (增强型)
无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (基础型)