本图片来自深圳市蓝星宇电子科技有限公司提供的DC 4000俄罗斯Optosystems 准分子激光器,型号为DC 4000的半导体行业专用仪器设备,产地为亚洲其他国家,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的美国TED PELLA高分辨离子溅射仪208HR、 日本JEOL发射扫描电子显微镜SEM 3View等仪器。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司是仪器信息网的金牌,合作关系长达5年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
蓝星宇客服电话:400-860-5168转4527,请放心选择!
同类推荐
为您推荐相似的无掩模光刻机/直写光刻机
激光干涉光刻机
Shibuya SLA2021 激光剥离加工机
多光子聚合3D纳米光刻机
双光子聚合激光直写3D纳米光刻机
MCML-100/MCML-120A SERIES 无掩膜数字光刻机 Digit
POLOS® BEAM桌面无掩模光刻机
俄罗斯Optosystems准分子激光器7X200
俄罗斯Optosystem准分子激光器CL 7500
俄罗斯Optosystems准分子激光器CL 7700
日本理音 RION 粒子计数器 KS-20F
Nikon光刻机
Nikon光刻机
奥地利SmartNIL紫外纳米压印机EVG7200
奥地利EVG键合机EVG520IS
奥地利EVG键合机EVG510
Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i
EVG720紫外纳米压印机
美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统
俄罗斯Optosystems 准分子激光器CL 7308
俄罗斯Optosystems 准分子激光器CL 7000
日本理音 RION 粒子计数器 KS-20F
Nikon光刻机
日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
俄罗斯Optosystems准分子激光器7X200
俄罗斯Optosystem准分子激光器CL 7500
俄罗斯Optosystems准分子激光器CL 7700
俄罗斯Optosystems 准分子激光器CL 7308
俄罗斯Optosystems 准分子激光器CL 7000
Nikon光刻机
奥地利SmartNIL紫外纳米压印机EVG7200
奥地利EVG键合机EVG520IS
奥地利EVG键合机EVG510
Keyence 远心激光刻印机MD-T
奥地利EVG单面/双面光刻机EVG620(带有压印功能)
奥地利EVG掩膜光刻机EVG610
奥地利EVG 单面/双面光刻机(带有压印功能)EVG620
奥地利EVG紫外纳米压印EVG7200
牛津镀膜机PECVD Plasma system 133
牛津镀膜机PECVD/刻蚀机PlasmaLab System100
牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000
美国AMAT镀膜机PECVD:P5000
美国Neocera脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD
晶片,硅片,晶圆
RKD 激光开封机RA-880
Annealsys 高温退火炉AS-ONE
德国 Finetch_lambda 倒装焊接机
RION液体光学颗粒度仪KS-41B
日本理音Rion液体光学颗粒度仪KS-19F
Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i
德国MBE-Komponenten 分子束外延系统OCTOPLUS 400
电子束光刻机
电子束光刻机
电子束光刻机
UV Litho-ACA 无掩膜光刻机
手动光刻机
UV Litho-S 无掩膜光刻机
BIO L+ 无掩膜光刻机
μMLA无掩模光刻机
MLA 300 无掩模光刻机
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻机
MPO100双光子聚合直写光刻机
VPG 300 DI 无掩模直接成像仪光刻机
无掩模光刻机/直写光刻机beam-6
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (旗舰型)
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (增强型)
小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 (基础型)
POLOS® BEAM桌面无掩模光刻机
紫外光刻机
SPS 光刻机 POLOS µ(LCD)
扫描式光刻机
扫描式光刻机
步进式光刻机
扫描式光刻机
扫描式光刻机
扫描式光刻机