超高分辨率电子束光刻EBL图片

本图片来自北京亚科晨旭科技有限公司提供的超高分辨率电子束光刻EBL,型号为Ultrahigh Resolution EB Lithography 半导体行业专用仪器设备,产地为亚洲日本,属于品牌,参考价格为400万 - 500万,公司还可为用户供应高品质的 聚焦离子束(Xe)扫描电镜 FERA -XMPICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro等仪器。
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