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NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机图片

本图片来自微纳(香港)科技有限公司提供的NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机,型号为 SWC-4000NANOVEA半导体行业专用仪器设备,产地为美洲美国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的德国Osiris AFIXX 20a型全自动临时键合机德国Osiris台式匀胶机等仪器。
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微纳(香港)科技有限公司

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金牌6年

营业执照已认证

品牌性质: 一般经销商
厂商荣誉:

仪器核心参数

晶圆尺寸: 4,6,8,12寸片
相关技术: 无损兆声清洗技术,去离子水冲洗、化学试剂清洗
尺寸: 28”*32”*54”
适用制程、应用范围: CMP抛光后晶圆片
产能: /
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