本图片来自那诺-马斯特中国有限公司提供的NPE-4000 (A) 全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统,型号为NPE-4000 (A)的那诺-马斯特半导体行业专用仪器设备,产地为美洲美国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统、LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统等仪器。
那诺-马斯特中国有限公司是仪器信息网的铜牌,合作关系长达10年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,请放心选择!
同类推荐
看了化学气相沉积设备的用户又看了
台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD
Corial 等离子体增强化学气相沉积设备 D250L
热丝CVD设备HWCVD MVS
Denton(丹顿)PE-CVD
1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
1200℃滑动式CVD系统
NextCVD多功能宽密度等离子体CVD
CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW
1200℃ 4英寸双温区回转CVD管式炉
金铠仪器 CVD反应装置
德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备
微波能化学气相沉积系统,WBQXCJ-4,VKTR
微波等离子化学气相沉积系统,VKTR,WBDQC-4
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Bench-Top Plasma Tool
1200低真空CVD系统
1200加长双温区CVD系统
1700CVD系统
NMC-4000 (M) PAMOCVD系统
NMC-4000 (A) 全自动PAMOCVD系统
NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
NLD-3500 (M) ALD原子层沉积系统
NLD-3000 ALD原子层沉积系统
NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
NRE-3500 (M) RIE反应离子刻蚀机
NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
NRE-3000 RIE反应离子刻蚀机
NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机
NPC-3500(M)等离子刻蚀机
NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机
NPC- 3000 等离子刻蚀机
NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
NIE-4000 (R) RIBE反应离子束刻蚀
NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀
NIE-3500 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3000 IBE离子束刻蚀
NRE-4000 (ICPA) 全自动ICP刻蚀系统
NRE-4000 (ICPM) 全自动ICP刻蚀系统
NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀
NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀
NPD-4000 (M) PLD脉冲激光沉积系统
NPD-4000 (A) 全自动PLD脉冲激光沉积系统
SWC-4000 (D) 兆声湿法去胶系统
SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统
SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统
等离子体增强CVD系统
等离子体增强CVD系统
等离子体增强CVD系统
等离子体增强型CVD系统
化学气相沉积等离子体CVD系统
化学气相沉积(PECVD)系统
化学气相沉积 (PECVD) 系统
化学气相沉积 (PECVD) 设备
热丝CVD设备HWCVD MVS
高密度等离子体化学气相沉积系统
等离子化学气相沉积系统
卧式 LPCVD 系统
等离子化学气相沉积系统
焊接式真空阀门
AXIC低温低损伤等离子体增强化学气相沉积(ICP PECVD)
德国IPLAS MPCVD CYRANNUS® 微波等离子化学气相沉积
等离子体材料工作站
iplas MPCVD 微波等离子化学气相沉积系统
Plasma-Therm沉积设备PECVD / HDPCVD
Corial 等离子体增强化学气相沉积设备 D250L
普若菲特PRFT化学气相沉积设备PR-OP1200-TID2Z-150系列CVD系统
培育钻石设备-钻石生长设备-MPCVD系统-沃特塞恩专业研发
微波等离子体CVD设备-人造钻石设备-沃特塞恩
分子束外延薄膜沉积系统MBE
低压化学气相沉积系统LPCVD
石墨烯制备CVD系统基本信息 使用亮点介绍
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积和反应离子刻蚀系统基本信息 查厂商选仪器看报价
ASSprayCVD-050化学气相沉积设备多少钱一个 使用亮点介绍
MicrophaseMPCNT-Basic化学气相沉积设备多少钱一台 生产厂商全面解析
中环电炉1200℃双温区CVD系统化学气相沉积设备多少钱一台 查厂商选仪器看报价
金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)是什么 售后服务怎么样
MVSystemsMVS化学气相沉积设备多少钱一台 厂商实力及地址简介
ECOPIALC-100, LC-102化学气相沉积设备多少钱一个 典型采购用户详情了解
金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)多少钱一个 生产厂商详细介绍
iplasCYRANNUS化学气相沉积设备多少钱一个 使用亮点介绍
等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)是什么 厂商实力及地址简介
那诺-马斯特NMC-3000化学气相沉积设备怎么样 有哪些特点
化学气相沉积(CVD)6月热度榜