ICP-反应离子刻蚀机图片
本图片来自科睿设备有限公司提供的ICP-反应离子刻蚀机，型号为KVET的半导体行业专用仪器设备，产地为亚洲韩国，属于品牌，参考价格为150万 - 200万，公司还可为用户供应高品质的气溶胶发生器,RBG 粉尘发生器 （高压型）、瑞士Digitel DHA-80 自动更换滤膜气溶胶采样器等仪器。
科睿设备有限公司是仪器信息网的金牌，合作关系长达11年，工商信息已通过人工核验，获得仪信通诚信认证，
科睿设备有限公司客服电话：400-860-5168转3281，请放心选择！
查看 ICP-反应离子刻蚀机 信息
同类推荐
看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
伯东NS离子刻蚀机日本进口等离子体刻蚀设备NS-12
Diener 等离子蚀刻机Tetra 8 RIE
德国Osiris CHEMIXX E 30Pm 湿法刻蚀专用系统
等离子清洗机ZEPTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机PICO
RIE等离子刻蚀机/去胶机
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机
SAMCO RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
Oxford PlasmaLab ICP 133
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800
高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
RIE反应离子刻蚀 SI 591
SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D
质子转移反应飞行时间质谱仪（专业应用于气体中“挥发性有机化合物”分析）
太阳能电池建模与光电数据模拟分析系统
OLED/钙钛矿LED光谱分析系统
OLED面板设计模拟软件系统
薄膜太阳能电池设计模拟软件系统
瞬态光电流/光电压测试系统
瑞士Digitel DHA-80 自动更换滤膜气溶胶采样器
脉冲激光沉积分子束外延系统
脉冲激光沉积系统(PLD)
基质辅助脉冲激光沉积系统（MAPLE,专业用于高分子镀膜工艺）
TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱
气溶胶粒径谱仪
大气多功能测量仪
口罩及滤料测试系统
负性光刻胶
半自动划片机/切片机（6英寸）
半自动划片机/切片机 （8英寸，12英寸）
双刀片半自动划片机/切片机（12英寸，16英寸）
全自动划片机/切片机（6-8英寸，12英寸）
纳米颗粒发生器（火焰发生器）
多通道气溶胶采样器
采样泵试验台
原子层沉积系统
单离子注入聚焦离子束系统
光刻机，紫外曝光机（LED光源）
光刻机，紫外曝光机（双面，半自动）
光刻机，紫外曝光机，Mask Aligner
光电子发射光谱
低温等离子体笔
盐雾发生器
Axic反应离子刻蚀RIE，等离子增强化学气相沉积PECVD
RIE反应离子刻蚀机
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备
8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备
8英寸金属刻蚀设备
8英寸硅刻蚀设备
12英寸金属刻蚀设备
12英寸硬掩膜刻蚀设备
8英寸离子束沉积（IBD）设备
8英寸离子束塑形（IBS）设备
12英寸离子束塑形（IBS) 设备
12英寸特种金属膜层刻蚀设备
新型离子枪
离子束刻蚀机
离子束刻蚀机
低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统
RIE等离子蚀刻系统
等离子刻蚀系统RIE
RIE等离子刻蚀系统
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机