本图片来自科睿设备有限公司提供的ICP-反应离子刻蚀机,型号为KVET的半导体行业专用仪器设备,产地为亚洲韩国,属于品牌,参考价格为150万 - 200万,公司还可为用户供应高品质的光刻机/紫外曝光机、超高真空扫描开尔文探针等仪器。
科睿设备有限公司是仪器信息网的金牌,合作关系长达11年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,请放心选择!
查看 ICP-反应离子刻蚀机 信息
同类推荐
看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
伯东NS离子刻蚀机日本进口等离子体刻蚀设备NS-12
Diener 等离子蚀刻机Tetra 8 RIE
德国Osiris CHEMIXX E 30Pm 湿法刻蚀专用系统
CIF 等离子清洗机CPC-F
等离子清洗机ZEPTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机PICO
RIE等离子刻蚀机/去胶机
RIE反应离子刻蚀机
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机
SAMCO RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
Oxford PlasmaLab ICP 133
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800
高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
质子转移反应飞行时间质谱仪(专业应用于气体中“挥发性有机化合物”分析)
太阳能电池建模与光电数据模拟分析系统
OLED/钙钛矿LED光谱分析系统
OLED面板设计模拟软件系统
薄膜太阳能电池设计模拟软件系统
瞬态光电流/光电压测试系统
瑞士Digitel DHA-80 自动更换滤膜气溶胶采样器
基质辅助脉冲激光沉积系统(MAPLE,专业用于高分子镀膜工艺)
飞行时间二次离子质谱
负性光刻胶
半自动划片机/切片机(6英寸)
半自动划片机/切片机 (8英寸,12英寸)
双刀片半自动划片机/切片机(12英寸,16英寸)
全自动划片机/切片机(6-8英寸,12英寸)
多通道气溶胶采集系统
采样泵试验台
原子层沉积系统
单离子注入聚焦离子束系统
光刻机,紫外曝光机(LED光源)
光刻机,紫外曝光机(双面,半自动)
光刻机,紫外曝光机,Mask Aligner
防护面罩泄漏测试仪
超高真空扫描开尔文探针
光电子发射光谱
环境控制型开尔文探针系统
口罩及滤料测试系统
大气多功能测量仪
深能级瞬态谱仪
开尔文探针系统
真空快速退火炉
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机
信利泰等离子清洗机6084
干法刻蚀装置
干法刻蚀设备
NLD干法刻蚀设备
高密度等离子刻蚀装置
刻蚀设备
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔
ICPECVD等离子沉积设备SI 500 D
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
Axic反应离子刻蚀RIE,等离子增强化学气相沉积PECVD
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
RIE反应离子刻蚀机
科研反应离子刻蚀PECVD
感 应 耦 合 等 离 子 刻 蚀 机
等离子清洗机PICO
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机ZEPTO
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
Oxford PlasmaLab ICP 133
Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统