满足分析型用户需求！超大束流，超快分析的场发射扫描电镜SEM4000 来了

在此前的两期推文中

我们为大家介绍了两款钨灯丝扫描电镜

“重新定义钨灯丝扫描电镜”的SEM3300

和“操作不挑人，简约不简单”的SEM2000

今天，针对有分析型需求的用户

超大束流，超快分析的

场发射扫描电镜SEM4000

它来了

点开下方视频，观看震撼大片！

场发射扫描电镜SEM4000

SEM4000超大束流，超快分析

熟悉国仪的朋友们都知道

我们已经有了一款主打低电压高分辨的场发射电镜SEM5000

那么SEM4000有什么不同？有什么新的特点？

场发射扫描电镜SEM4000

那就是电子束流大，分析速度快！

非常适合有分析型需求的用户

SEM4000有着最大超过200 nA的电子束流

而且束流大小连续可调！

大束流可以带来很多好处

例如：相同信噪比情况下更快的成像速度、更大的能谱计数、更强的波谱仪信号

束流连续可调，有利于选择最合适的成像和能谱条件

SEM4000实拍见真章

下方展示的是使用SEM4000拍摄的高、低真空样品图片

枫香花粉在低真空模式下形貌保持良好，表面细节丰富、整体层次分明;

SEM4000电子束流大，背散射像下原子序数相近材料的成分衬度差异明显（PA-玻纤复合材料）;

应用高亮度的热场发射电子源，SEM4000可以获得高分辨图片（金刚石涂层）

枫香花粉

PA-玻纤复合材料

金刚石涂层

SEM4000技术解读

SEM4000是如何同时做到大束流和束流连续可调？

国仪量子电镜研发团队

采用了束流控制透镜+像方束张角控制透镜的方案

也就是先用一个透镜，控制电子源方向的束张角，从而获得连续可调的电子束流（图a）

图a

然后再用第二个透镜，控制像方束张角（图b）

图b

从而实现不同束流下的最佳分辨率和景深

使得绝大多数工况下成像质量最优！

如果您需要用到分析功能

并且追求更高、更快的分析效率

那么场发射扫描电镜SEM4000

一定是您的最佳拍档！