资料下载｜珀金埃尔默携半导体行业检测解决方案亮相【SEMICON China 2021】

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在半导体器件和化学品制造的分析中，痕量元素杂质的控制对于性能具有至关重要的作用，甚至影响半导体产品的良品率。半导体制造商需要在整个制造过程中拥有检测超痕量污染物的能力，包括晶圆、超纯水、化学试剂、光刻胶、电子特气、封装材料等。半导体工艺的进步，对元素杂质和微粒污染物检测能力提出了更高的要求。

珀金埃尔默提供的NexION^® 5000 化学高分辨多重四极杆ICP-MS，热等离子体条件下可实现半导体必须元素低于1ppt（SEMI F63-0918) 的背景等效浓度。同时，该仪器可以升级，以满足SEMI S2和S8标准。NexION系列ICP-MS可设置低至10μs的信号读取时间，高精度测定抛光材料中悬浮金属纳米粒子的颗粒浓度、尺寸大小和分布信息，为光刻过程保驾护航。

半导体行业中使用的有机化合物的纯度杂质影响到相关产品的质量。珀金埃尔默公司Clarus^® SQ8气相色谱质谱联用仪具有准确的定性能力和优异的定量精度，是分析有机试剂纯度和杂质的主要分析设备。

半导体行业使用的有机试剂也会产生相应的挥发性有机物，对生产和环境造成污染，包括AMC、VOCs等。珀金埃尔默公司热脱附仪与气相色谱质谱联用，可实现洁净室或生产区域内空气的在线或离线采集进样，并检测出低浓度（

针对半导体行业的IC封装、显示面板、光伏电池、光学薄膜等领域，珀金埃尔默公司凭借先进的傅里叶变换红外光谱仪、红外显微镜、紫外可见近红外分光光度计、差示扫描量热仪、热机械分析仪等产品，一如既往为客户提供全面的解决方案，可用于测定固化率、固化热、热膨胀系数、透光率、反射率、微观污染物、成分浓度等。

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