设备型号:MECATECH 250 SPI
设备名称:自动研磨抛光机
设备简介:
自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。
技术参数:
1)底盘:
电机功率:750 瓦。
底盘转速:20-700 转/分钟。
底盘转向:顺时针或逆时针。
扭矩补尝:变频电机自动补偿。
工作盘尺寸:200-250 毫米。
工作模式:研发模式(R&D) – 所有参数可调;
程序模式(Program) – 只允许按预定参数工作。
2)自动工作头:
结构:齿轮箱传动。
电机功率:180 瓦。
工作头转速:20-150 转/分钟。
工作头转向:顺时针或逆时针。
压力模式:单点力。
样品数量:单点力时1-4个。
样品压力:1-200牛,设备启停时自动减小。
自动给液:200毫升蠕动泵滴液器2只,流量流速可控。
功能特点:
1.电机变频器,充分保证转速/扭矩恒定,满足对大尺寸/高硬度样品的制备。
2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。
3.分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。
研发模式与程序模式可供选择:
A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。
B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。
4.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器,可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率;另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本。
5.底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入;附带防溅环;结构简单,方便维修。
6.可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养。
7.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。
8.磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存。
9.自动工作头180度旋转,方便内侧样品装夹。
10.安全装置:一侧紧急停车按钮;工作状态时,工作头自动位置锁定;全面符合安全标准。
创新点:
全新设计外观,运行时更加稳定。大功率变频马达给工作头和工作盘充足动力
[来源:仪器信息网] 未经授权不得转载
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