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Nano Energy:分子层沉积技术助力铂基催化剂性能提升

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分享: 2019/05/28 10:03:57


由于在氢氧化(hydrogen oxidation)和氧还原(oxygen reduction)反应中的高效催化特性,铂基催化剂被广泛地应用于质子交换膜燃料电池当中的关键组成部分,比如阴和阳。然而,当质子交换膜燃料电池在较为严苛的环境下(比如低pH环境(<1)、高的氧浓度、高湿度等)运行时,商用的铂/碳催化剂会展现出耐用性低的问题。由于Ostwald熟化效应、铂纳米颗粒的脱离、铂纳米颗粒的团聚等问题,铂/碳催化剂的活性会显著下降。因此,开发有效方案来稳固铂基催化剂从而防止其活性在燃料电池运行时的损耗,是非常重要的。

 

针对上述问题,加拿大西安大略大学的孙学良教授课题组,开创性地利用退火MLD(Molecular Layer Deposition,MLD,分子层沉积)夹层结构来固定铂纳米颗粒,从而实现了铂基催化剂性能的提升,相关结果刊载于Nano Energy(https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2019.03.033)。在孙教授团队的工作中,MLD衍生层是通过三基铝和丙三醇合成在掺氮碳纳米管(nitrogen-doped carbon nanotubes,NCNT)上的,此后通过煅烧获得多孔结构。后,通过ALD工艺,铂纳米颗粒被沉积在MLD-NCNT载体之上。多孔结构有益于稳固铂纳米颗粒、避免团聚以及从载体上脱离。相较于沉积在掺氮碳纳米管(NCNT)上的铂催化剂来说,沉积在MLD-NCNT载体上的Pt催化剂展示出了显著提升的氧化还原反应活性以及耐用性。文中利用X射线吸收光谱等手段,详细揭示了增强的机制。

 

图1 NCNT-MLD-Pt的制备流程示意图以及出色特性(图片来源:Nano Energy:Rational design of porous structures via molecular layer deposition as an effective stabilizer for enhancing Pt ORR performance)

 

相较于ALD(Atomic layer deposition,ALD,原子层沉积)来说,MLD技术还比较新。MLD技术可以视为ALD技术的亚类,具有与ALD相似的气相沉积工艺,基于序列及自限制反应,在分子尺度上生长材料,目前比较多涉及的是有机聚合物或者无机-有机杂化材料。由于本质上属于ALD技术的衍生技术,因此MLD技术具备了ALD技术的主要优点:优异的三维共形性、大面积均匀性、良好的工艺重复性、膜厚或组成的控制、分子结构或官能团的裁剪,以及较低的沉积工艺温度。然而,由于MLD工艺中采用有机分子作为前驱体,有机分子前驱体的蒸汽压低、热稳定性差,因而反应活性较低。此外,MLD工艺中的有机分子前驱体存在同质官能团引起的双反应现象,会使得沉积速率变慢,甚至是发生非线性的反应生长速率。所以,利用MLD工艺沉积新材料,对于设备和工艺掌控都提出了较高的要求。

 

在本文当中,孙教授团队利用MLD沉积铝氧烷所用的设备是美国Arradiance公司生产的型号为Gemstar-8 的台式ALD沉积系统,此套系统直接与手套箱相联,手套箱中为氩气气氛。在本工作之前,孙教授所在课题组已经利用MLD技术合成了铝氧烷,并且将铝氧烷涂层应用于提高碳/硫阴或碱金属阳的电化学特性。制备当中,他们采用三基铝和丙三醇作为前驱体,在150 ℃的条件下将,将前驱体依次通入腔体当中。
     

另一方面,目前大多数无机-有机杂化物质对于空气中的湿度非常敏感,不稳定。由于Arradiance公司生产的台式ALD系列产品,非常小巧,并且非常友善周到地为用户们预留了可以与各类市场主流手套箱集成的接口,从而使得无机-有机杂化物质在制备完成后可以在惰性环境中转移至其他实验环境或是进行其他实验。

 

图2 Arradiance台式原子层沉积系统,设计紧凑,功能齐全,堪称“麻雀虽小五脏俱全”

 

 

图3 紧凑而友善的设计理念,使得Arradiance ALD系统可以方便地与手套箱集成,满足用户的特殊实验需求

[来源:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司]

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