顶空进样气相色谱法(GC-HS)是目前检测药物中有机残留溶剂使用较多的方法,聚光科技(杭州)股份有限公司下属子公司上海安谱实验科技股份有限公司(以下简称“聚光科技”)严格按照ICH、USP、EP法规对于药物残留溶剂的要求,推出气相顶空溶剂。
CNW气相色谱顶空溶剂包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性样品和非水溶性样品中有机残留溶剂分析常用的顶空溶剂,如DMSO、DMF、DMA、NMP。
下面是HPLC 级DMSO、DMF、DMA 与HS-GC(气相顶空)级DMSO、DMF、DMA 进行HS-GC-MS 分析谱图对比:
下图为不同品牌质控指标对比:
对比结果:安谱实验顶空溶剂(Class1,2,3)残留溶剂含量均小于其他竞争品牌
CNW 气相色谱顶空溶剂具有以下优势:
GC-HS 级别高纯溶剂清单:
顶空溶剂实验小贴士
检测器的选择
一般选用FID检测器,对含卤素的有机溶剂如氯仿等,采用ECD检测器可得到更高的灵敏度。
温度的选择
顶空温度应根据溶解供试品溶剂的特性及供试品中残留溶剂的沸点选择。以水为溶剂及测定低沸点残留溶剂时,顶空温度不宜超过85℃;测定沸点较高的残留溶剂时,通常选择较高的顶空温度;以DMSO 为溶剂时,顶空温度不宜超过115℃。
时间的确定
顶空时间是要确保供试品溶液的气- 液两相达到平衡,一般通过测定顶空时间与顶空气体浓度的浓度—时间曲线来确定。顶空时间不宜过长,一般为30~45分钟。
[来源:聚光科技(杭州)股份有限公司]
聚光科技荣获“国家级单项冠军企业”表彰,董事长顾海涛受邀参会并领奖
2024.07.09
2024.07.09
2024.07.09
2024.07.01
2024.07.01
昆明冶金研究院冶金党支部书记、冶金研究所所长徐庆鑫一行莅临聚光科技考察调研
2024.06.21
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~