近日王道元教授陪同江阴兴澄特钢代表团访问了日本Ulvac-PHI公司。Ulvac-PHI公司亚洲课课长漆原先生全程接待了代表团并热情介绍了该公司最新的设备(PHI710,PHI4800,PHIQuantes,PHIQuicks,PHINano-TOF with MS/MS OPTION、PHIVERSAPROBEIII)。尤其值得一提的是该公司在世界上首次推出了双X射线源XPS装置。传统单色化XPS装置使用Al靶材而新型PHI Qiantes同时具备Al和Cr单色化电源并可以任意切换。使用Cr靶材可以获得比Al靶材更深深度的纳米表面信息。为表面分析找到了一个新的方向。希望引起大家广泛关注。
ULVAC-PHI,INC.公司是世界上规模最大的唯一一个能够同时提供4种纳米表面成分状态分析仪器的公司。这4种仪器分别是X射线微区聚焦扫描光电子能谱仪(XPS),双筒镜俄歇电子能谱仪(AES),飞行时间型二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和动态二次离质谱仪(D-SIMS)。这些超高真空分析仪器广泛用于各种高技术领域,如纳米科技,微电子,记录媒体,光催化,生物医学以及基础材料研究领域,如金属,聚合物,各种涂层等。尤其对新材料的研发和故障分析具有十分重要的意义。XPS不仅在表面定量方面独具特色,化学状态方面信息的提供对研究十分有价值。而AES可获得纳米级微区成分和图像的能力对纳米科技发展具有十分重要价值。TOF-SIMS除了可以高灵敏度地检测出包括氢在内的所有元素外,还可以提供表面1纳米信息深度的有机物分子结构的信息。D-SIMS对材料中微量成分检测灵敏度最高,深受半导体界用户的青睐。
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