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奥林巴斯参加了2012北京国际光电产业博览会暨第十七届北京国际激光、光电子及光显示产品展览会（ILOPE 2012），并在此次展会上着重展出了用于光学元件检测的设备。
奥林巴斯的近红外显微分光测定仪USPM-RU-W可以高速高精细地进行可视光区域至近红外区域的大范围波长的分光测定。由于其可以很容易地测定通常的分光光度计所不能测定的细微区域、曲面的反射率，适用于光学元件与微小的电子部件等产品。
USPM-RU III反射仪可精确测量当前分光仪无法测量的微小、超薄样本的光谱反射率，不会与样本背面的反射光产生干涉。是非常适合测量曲面反射率、镀膜评价、微小部品的反射率测定系统。
KIF-20-UW激光干涉仪有着良好的环境适应性，适用于快速质量检查和批量生产透镜现场管控。
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