日立场发射扫描电镜摄影大赛通知

2011年日立（Hitachi）场发射扫描电镜摄影大赛的通知

    为了普及电镜相关知识，提高电镜使用技术水平，增强工作者对电镜应用的技术交流，特别是日立场发射扫描电镜应用体会与交流，由天美（中国）科学仪器有限公司和日立高新技术有限公司共同主办的“2011年日立（Hitachi）场发射扫描电镜摄影大赛”，诚邀日立场发射扫描电镜的研究工作者、爱好者、老师以及在校学生积极参加此次活动。
一、大赛宗旨
将艺术手法与科学技术融入微观世界，加强行业内技术交流，增强工作者的兴趣与热情，提高使用水平，推动电镜事业的发展。
二、大赛主题
交流合作，共同提高
三、主办单位
天美（中国）科学仪器有限公司
日立高新技术有限公司
四、参赛资格
国内大专院校、科研院所及企事业单位等日立场发射扫描电镜的使用者、爱好者、在读博士及研究生。
五、参赛办法及要求
1、作品必须为日立场发射扫描电镜拍摄的图片。
2、同一参赛者(或单位) 最多可提交2幅图片。
3、参赛作品必须是参赛者本人亲自拍摄，不得使用或抄袭他人图片参赛。
4、为了促进场发射扫描电镜使用者间的技术交流，提交作品请注明参赛作品的制作详情，如：电镜型号，样品类型，制样方法，拍摄时间，拍摄条件等。
5、请提供原始图片，无伪彩色，允许适当调整对比度。
6、请参赛者对参赛作品做简单介绍说明，便于我们初选图片。
7、参赛人员需在11月4日前附件形式提交参赛作品（电子版，格式可为jpg，tif，bmp等。最好附带图片信息的电镜生成的txt文本文件）至邮箱：hitachisem@foxmail.com。
8、获奖作品的颁奖仪式将在日立公司在北京举行的新品发布会上进行。
9、参赛作品可公开，天美公司和日立公司可在合乎法律范围内并在标注原作者的情况下对参赛作品及获奖作品拥有无偿引用权
六、评选标准
初评：
时间：11月4日~ 11月13日
评委：HTG 1人  天美1人  外聘专家 3人
评分标准：5分制