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哈工大甘阳教授发现纳米刷子可清除AFM探针污染

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分享: 2010/05/26 09:59:52

  

  5月7日,美国材料研究学会(Materials Research Society,MRS)官方网站的“材料研究当前新闻”(Current research news of Materials News)栏目,以“光栅刷子能清洁原子力显微镜的探针针尖”为题,报道了哈尔滨工业大学化工学院甘阳教授发表在Ultramicroscopy上的原创性研究成果(合作者为墨尔本大学的Franks教授,“Cleaning AFM colloidal probes by mechanically scrubbing with supersharp ‘brushes’”, Ultramicroscopy, Volume 109, Issue 8, July 2009, Pages 1061-1065.)。这是甘阳教授继2009年受邀在《表面科学报告》(Surface Science Reports)上发表独立署名特邀综述后,又一引起国际关注的成果。

  该报道称:“清洁原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)针尖是AFM可靠成像和力测量的关键。研究者现在发现,具有超尖刺突的标定光栅作为‘刷子’,可用来机械清除AFM探针上的污染物,这是通过把探针在加大力的恒力模式下扫描刺突来实现。这一方法,不但能用来无损、高效地去除有机和无机污染物,而且可以实现污染物去除和探针研究的一步完成。此外,该方法既可用来清洁胶体/颗粒探针,也可以用来清洁标准AFM针尖。”

  甘阳教授认为,作为一种新型的表面污染物“定点”清除方法,该方法的应用远不限于清洁原子力显微镜探针,更有望在广泛的表界面研究、微电子等领域中得到广泛的应用。

  

[来源:哈尔滨工业大学]

标签: 纳米AFM
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作者:丰收秋天

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网友评论  2
全部评论(2条)
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wisbay2010-08-26 17:29:22
超声波清洗是利用空爆,瞬间无数个水泡破裂进行冲洗,很可能将探针损坏,而等离子清洗靠高能量的等离子大量冲击表面,又有可能造成表面结构塌陷,而且设备一次投入费用高昂。 在国外,很多实验室采用的是紫外臭氧清洗技术来清洗有机物,紫外臭氧技术完全是光子输出,对探针表面不会造成任何损伤,是一种温和的清洗方法。 PSD和PSDP系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子(污染物)。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解,样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物,然后形成CO2和H2O蒸气,同时也将臭氧分子转变成氧分子。而且能深入到各个角落,完成全面的清洗。
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wisbay2010-08-25 12:07:47
NOVASCAN紫外臭氧清洗机可用来专门清洗AFM探针。
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