仪器信息网资讯中心会展

作者

canghaili

阅读TA的文章

加入KOL 我要投稿

热门排行

日榜周榜

热门话题

BCEIA2009专题报告：材料分析

分享到微信朋友圈

打开微信，点击底部的“发现”，

使用“扫一扫”即可将网页分享到朋友圈。

分享： 2009/11/26 23:20:42

仪器信息网11月26日讯：继BCEIA 2009分析仪器应用技术报告会成功在北京展览馆举办，分析仪器应用技术专题报告之材料分析报告会于2009年11月25日下午继续召开，参加材料分析报告的有来自全国著名教授、分析行业专家学者等与会代表近百人，就新材料究竟对分析测试提出什么要求、提出什么挑战的问题进行探讨。

国家钢铁材料分析中心王海舟教授主持报告会

机遇与挑战并存：

分析测试中的材料分析主要是给产品从原料到成品等各个环节中的化学成分与物理性能提供的检测，从而保证产品的质量，并最终对产品的品质作出全面评价，为材料在各方面的应用以及进出口贸易提供可靠依据。目前材料分析测试涉及的领域主要有：医疗卫生、环境环保、生物药品、冶金、高分子材料等。而各种新型材料的涌现，又给分析测试人员以及分析仪器生产厂家提供了新的机遇与挑战。

岛津国际贸易（上海）有限公司应用工程师杨桂香女士

专题报告：ICP-AES在高纯物质杂质元素分析方面的应用

随着仪器公司对ICP-AES仪器性能指标的不断提升，以及应用领域的应用工程师不断做相关的工作，因此对高纯物质杂质的研究不仅是ICP-MS仪器分析的专利，而且ICP-AES仪器也能满足检测高纯物质中杂质分析的需求。虽然ICP-AES能检测高纯物质中杂质，但在分析时还存在以下三个方面的问题：1）基体干扰——ICP光源发射连续光谱背景及某些分子光谱带；2）光谱干扰——发射光谱谱线多，经常会出现不同程度的谱线重叠干扰；3）灵敏度——痕量甚至超痕量的要求有时达不到。而针对以上问题，可以进行分离富集前处理（沉淀分离法、萃取分离法、离子交换分离法）和采用高分辨率仪器来处理。

报告还从三个应用实例，分别使用沉淀分离法、未经分离直接测定、标准加入法检测高纯物质中杂质元素。它们的特点分别是ICP-AES测定高纯物质中杂质元素时，通过沉淀分离法分离基体，可以有效解决干扰，达到准确测定目的；采用高分辨仪器避免光谱干扰，通过数据处理扣除基体干扰，也可以达到准确测定目的；采取标准加入法使基体得到最合理的匹配，通过合理扣除背景来达到准确定量分析。

珀金埃默尔股份有限公司工程师康瑜容女士

专题报告：新型联用分析技术在材料研究方面的进展

由于一般在材料分析过程中，只能对物质进行定性或者定量，很难对材料生产过程的全部面貌进行监控，而各种仪器的相互联用可以达到中间过程的监控，发展联用技术，可以更好地了解材料的世界——揭示聚合体结晶与聚合物材料组成、促进有机挥发性气体VOC的研究和逸出气体成分分析、掌握药物载体的相互作用以及多晶改变情况。而联用分析技术，即是将各种分析技术串联而成，连接的方式包含：降解气体分析(Evolved Gas Analysis, EGA)、同步分析 ( DSC-Raman) 、测试环境改变 (UV-DSC, Humidity-DMA)。针对不同的连接方式，康瑜容工程师特从四个联用技术与实际的应用相结合，分别做了详细的阐释：热重-红外联用技术 (TG-IR)、热重-质谱联用技术 (TG-MS)、热重-气质联用分析技术 (TG-GCMS)、差示扫描量热法-拉曼光谱联用技术 (DSC-Raman) 。

上海光谱仪器有限公司高级工程师刘瑶函先生

专题报告：高性能原子吸收交、直流两用塞曼背景同时校正技术

在原子吸收中，塞曼背景校正技术是原子吸收中的一个很重要的技术，而SP-3880AA不仅实现了横向可变交流磁场、直流磁场塞曼背景校正的一体化，并且实现了这两种磁场塞曼背景校正的同时测量，因而可以直接比较同一次直流塞曼与交流塞曼背景校正方式的优劣，对背景校正方式进行优化，为塞曼背景校正的深入研究提供了条件，该技术为国际首创。

另外，石墨炉火焰原子吸收一体化设计，避免了石墨炉与火焰两种模式的机械切换，操作方便，系统具有交直流塞曼扣背景功能，能较好检测高背景样品的小信号，也能直接检测高温元素，具有较广泛的应用前景。交、直流塞曼两种背景校正方式，各具特色，因此在实际应用中可根据样品、分析元素的特点选择一种最合适的背景校正方式。

SP-3880AA实现了全反射双原子化器串联型结构技术、开关型石墨炉直流加热电源技术、交直流塞曼背景校正技术均为国内首创。在硬件成本增加不多的情况下，SP-3880型交直流两用塞曼背景校正原子吸收分光光度计同时具有交流、直流塞曼背景校正功能，并可在一次测量过程中同时得到两者的校正数据与图形，这样对于两种塞曼背景校正方法的比较研究更具可比性和学术意义；直流塞曼背景校正磁场可变，可通过选择磁感应强度来获得最大相对灵敏度，而恒磁场则无法选择，因此直流可变塞曼较恒磁场塞曼背景校正方式有更高的灵敏度和选择灵活性。

国家钢铁材料测试中心副主任陈吉文教授

专题报告：激光原位统计分布分析技术

材料（包括金属材料）对国民经济有着很重要的应用，然而在冶金材料分析面临着原位元素分布与状态分析、管复杂体系痕量元素分析、管复杂体系痕量元素分析三大难题。在目前的表征材料成分与状态的方法，一方面利用宏观分析材料的平均成分，反映材料宏观基本属性；另一方面利用微观分析组织结构反映材料局部性质；最后可以通过原位统计分布分析在材料中较大尺度范围内化学成分及其状态的统计定量分布，从而反映材料综合性质。在原位统计分布分析中，火花源、激光源、微束X射线、辉光溅射等都可以快速获得材料中每一个位置元素原始含量及其状态。

对于激光原位统计分布分析技术可以分为激光烧蚀等离子体质谱法（LA-ICP-MS）和激光诱导击穿光谱法（LIBS）。其中LA-ICP-MS法的优点：原位、快速，灵敏度与空间分辨率高(um级)，同时多元素分析；对样品尺寸、形状无严格要求，无导电性要求；固体直接取样，无须样品消解，可分析样品种类多；干扰较少。而激光诱导击穿光谱技术的特点：分析简便、快速，分析速度快无须烦琐的样品前处理过程，避免了样品被污染或损失的可能；对样品尺寸、形状及物理性质要求不严格，可分析不规则样品；可分析导体、非导体材料，以及难熔材料；可测定固态样品，还可以测定液态、气态样品；LIBS具有高灵敏度与高空间分辨率。激光烧蚀坑直径达微米级，非常适合原位统计分析技术，不仅可给出表面的一维二维成分分布，甚至可给出包含材料近表面的三维成分分布，非常适合涂层材料、薄膜材料分析；进行样品痕量分析，现场分析以及高温、恶劣环境下的远程分析。

材料分析专题报告现场

[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载

标签： BCEIA 材料分析

收藏｜已收藏｜ 0 点赞｜已点赞｜ 0 分享

分享到微博

微信扫一扫

作者：canghaili

总阅读量 2w+ 查看ta的文章

赞赏

BCEIA展会跟踪报道之二---莱伯泰科引人注目

BCEIA2009专题报告会：药物与天然产物