新一代高性能激光浮区法单晶炉

1、更高功率、更加均匀的能量分布和更加稳定 2、独特的专利技术 （1）采用专利技术同源五路激光设计，确保熔区能量分布更加均匀（专利号：JP2015-58640）； （2）更加科学的激光光斑优化方案，有助于降低晶体生长过程中的热应力（专利号：JP2017-136640, JP2017-179573）； 采用独特的实时温度集成控制系统（专利号：JP2015-78683）