核心参数
仪器种类: 全谱直读
产地类别: 国产
检出限: μg/L级别
重复性: RSD≤0.5%
稳定性: 4小时稳定性RSD<2.0%
波长范围: 165-870nm
光学分辨率: ≤0.007nm(在200 nm处)
产品概述
ICP-5000是集中阶梯光栅的二维分光系统、自激式全固态射频电源、科研级高速CCD为一体的全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪,最多可以同时分析72个元素,覆盖元素周期表绝大多数金属元素和非金属元素;检出能力达到ppb级别。小型、智能化ICP-5000告别了过去的单道扫描时代,带您体验国际一流的快速、全谱分析技术!
产品特点
分析精准
中阶梯二维分光系统,具备更高的分辨能力;防溢出背照式百万像素CCD检测器,紫外响应高,无紫外荧光膜,使用寿命长;多种背景校正技术可供选择;
稳定可靠
全固定无运动部件的光学系统;稳定的质量流量氩气集成控制系统;可视化的安全联锁和运行监控。
便捷易用
采用可拆卸炬管,内置自动化的炬管准直、光源优化功能。
使用成本低
专利的智能光室吹扫,紧凑高效的光室设计等多项措施降低氩气消耗;免费保外技术指导和平价现场服务。
全面的分析软件
层次化的软件界面,操作直观、便捷,可满足不同层次客户的使用需求;丰富的方法库和版本化的管理方式更利于方法的传承、学习和维护。
典型用户
高校、质检中心、环境监测站、企业、农业系统、地质地矿
典型应用点
环境、农业、冶金、材料、食品安全、生物技术、石化、地矿等领域
吉天仪器ICP-AESICP-5000的工作原理介绍
ICP-AESICP-5000的使用方法?
吉天仪器ICP-5000多少钱一台?
ICP-AESICP-5000可以检测什么?
ICP-AESICP-5000使用的注意事项?
吉天仪器ICP-5000的说明书有吗?
吉天仪器ICP-AESICP-5000的操作规程有吗?
吉天仪器ICP-AESICP-5000报价含票含运吗?
吉天仪器ICP-5000有现货吗?
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ICP-5000测定硅材料中金属元素 Al
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中Al等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
ICP-5000测定硅材料中B元素
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中B等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
ICP-5000测定硅材料中金属元素Ca
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中Ca等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
ICP-5000测定硅材料中金属元素Fe
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中Fe等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
ICP-5000测定硅材料中金属元素Ni
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中Ni等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
ICP-5000测定硅材料中金属元素Mn
硅材料具有优异的电学性能和机械性能,是用量最大、应用最广的半导体材料。硅材料中B、P、Cu、Fe等都是极有害的杂质,因此,电子工业中对硅材料的纯度要求极高。由于硅材料中主成分是硅和碳,溶解此类样品通常需要加入HF,温度过高易造成B的损失,另外硅材料中杂质含量通常很低,要求分析仪器具有较高的灵敏度,尤其要求B、P等难电离元素具有高灵敏度。因此,选择合适的消解方法和高灵敏的检测仪器对此类样品的分析至关重要;本文采用氢氟酸等混合酸低温湿法消解硅材料样品,随后使用ICP-5000对该样品中Mn等8种有害杂质元素进行测定, 并考察了仪器检出限和方法的精密度。
半导体
2017/12/20
企业名称
聚光科技(杭州)股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
其他股份有限公司(上市)
信用代码
91330000734500338C
成立日期
2002-01-04
注册资本
肆亿肆仟捌佰柒拾叁万柒仟陆佰元
经营范围
光机电一体化产品和相关软件的研究、开发、生产(凭许可证经营)、安装;销售自产产品及相关的技术咨询和服务;仪器仪表、机械设备、汽车的销售;机械、电气、仪表、电信和控制系统设备的运营维护及检修服务,计算机软件开发、销售、技术服务及系统集成;计算机自动控制及监视系统设计与安装;环保工程、机电工程、电子工程、消防设施工程、市政工程、水利水务工程、节能工程的设计、施工,园林植物种植、销售,生态修复工程、园林绿化工程、园林景观工程的设计、施工,园林养护,环保产品开发和相关技术服务,企业管理咨询,建筑劳务服务,从事进出口业务。(以上范围不含国家法律法规禁止限制及许可经营的项目)(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
聚光科技(杭州)股份有限公司
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