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搭载场发射电子光学系统
高分辨率面分析
对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像（左侧）上直径只有50nm左右的Sn颗粒，在X射线图像（右侧）上也是清晰可见。
■ 大束流高灵敏度分析
实现3.0μA（加速电压30kV）的束流。
全束流范围无需更换物镜光阑。
■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪
无人可及的52.5°X射线取出角。4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。
最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。
■ 全部分析操作简单易懂
全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。
追求「易懂」的人性化用户界面。
搭载导航模式，自动指引直至生成报告。
■ 优良的空间分辨率
EPMA可达到的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV）分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次电子图像最高分辨率3nm
碳喷镀金颗粒的观察实例。
3nm（@30kV）。相对较高的束流也可将电子束压
细聚焦，更加容易的获得高分辨率的SEM图像
高灵敏度面分析
使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。准确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相（左侧），同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前（右侧）。
实现微区高灵敏度分析的先进技术
1 高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。
2 EPMA专用电子光学系统
电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。
3 高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着高真空，确保发射体稳定工作。
4 高灵敏度X射线谱仪
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。
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