2024-04-01 16:51
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GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配。
高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权,效率更高、颗粒更细,膜厚更均匀。适用于EDS样品制备;EBSD样品制备;MLA系统样品制备;其它需要制备碳膜的领域。
高真空磁控离子溅射仪集成化了 LCD 触摸显示屏操作界面,有利于实际操作。外接机械泵(随附)可完成迅速真空泵,进而为大部分规范SEM剖析给予充足的涂层晶体规格。
GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。