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聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化

2024/05/31 16:36

阅读:16

分享:
应用领域:
电子/电气
发布时间:
2024/05/31
检测样品:
电子元器件产品
检测项目:
物理性质
浏览次数:
16
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参考标准:

方案摘要:

透明导电膜(TCFs)广泛应用于现代电子设备中。当沉积在玻璃、硅或聚合物衬底上时,这些薄的导电膜可以携带电能。TCF被用作OLED和太阳能电池的电极,或者简单地用作你喜欢的手机触摸屏上的导电层。

产品配置单:

分析仪器

光纤激光器Femtum Nano 2800-天津瑞利-FEMTUM

型号: Femtum Nano 2800

产地: 加拿大

品牌: FEMTUM

¥1

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方案详情:

聚合物、玻璃和硅上的薄膜图案化


透明导电膜(TCFs)广泛应用于现代电子设备中。当沉积在玻璃、硅或聚合物衬底上时,这些薄的导电膜可以携带电能。TCF被用作OLED和太阳能电池的电极,或者简单地用作你喜欢的手机触摸屏上的导电层。


图1:透明导电膜是所有触摸屏技术的基础


在TCF家族中,氧化铟锡(ITO)因其优异的透明度和电学性能而成为行业标准。最近的材料,如氧化石墨烯(GO)或PEDOT,显示出对柔性电子器件的巨大前景,因为它们比ITO更容易弯曲。


透明导电膜的图案化


这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程,它允许去除层的一些部分,以使表面电学性质功能化,并根据应用在层上创建电路。与光刻相比,激光图案化是一种很有前途的方法,因为它提供了以非常高的吞吐量定制图案化的灵活性,同时消除了耗材和预处理步骤的使用。

当涉及到TCF的激光图案化时,挑战之一是在不影响下面的衬底(玻璃、聚合物、硅等)的情况下选择性地去除薄膜的能力。如图2所示,根据沉积工艺或应用,也可以优选去除基板上方的TCF层(前处理)或通过基板(后处理)。


图2:TCF激光图案化的两种方法:正面和背面处理


薄膜的中红外选择性激光图案化


为了克服这些挑战,Femtum开发了一种2.8µm的新型中红外脉冲光纤激光器,用于选择性去除不同衬底上的透明导电膜。

中红外脉冲激光器是薄膜图案化的理想选择,因为大多数导电薄膜都是基于在3µm左右的波长下能强烈吸收的氧化物材料。与UV或近IR激光图案化相比,在不影响衬底的情况下更容易选择性地去除这些薄层,衬底在这些中IR波长下具有高得多的烧蚀阈值。

图3显示了使用Femtum Nano 2800在PET上使用正面和背面处理方法进行ITO图案化的示例。

图3:使用Femtum Nano 2800光纤激光器在PET上进行ITO处理。前处理和后处理对PET基材没有任何损坏。


由于Femtum Nano 2800具有好的光束质量,还可以实现小特征尺寸(约10µm)的精确图案化,如图4所示。

图4:特征尺寸为12微米的PET上ITO的精确图案化


使用这种多功能的交钥匙工业光纤激光器,能够在各种基板上处理TCF,如柔性聚合物(PET、PMMA、聚酰亚胺等)或其他中红外透明基板(硅、锗),开辟了从柔性显示器到可穿戴传感器的广泛应用。


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