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光刻机又名掩膜对准曝光机,是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路,将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上,从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式,主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机,其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机,它通过直接对晶圆进行曝光,实现图案的转移,能够更快速地制造特定产品、降低成本,除了能够满足传统的2D光刻需求外,还能实现2.5D光刻(即灰度光刻)。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点,使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
科研版无掩膜光刻机-Academic
高灵活性、高精度、无掩膜的优势,非常适用于科学研究。
ACA系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机,其基于空间光调制技术,实现了数字掩膜光刻,极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源,设备稳定,上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能,让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持,助力科学研究领域的发展和创新。
ACA无掩膜光刻机亮点:
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面积
高精度步进光刻
无掩膜光刻机
企业名称
托托科技(苏州)有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
91320594MA1MQNFL01
成立日期
2016-08-01
注册资本
1000万元整
经营范围
研发、销售、生产和维护:光学设备、机电设备、电子产品及配件、信息采集设备、信息处理设备、信息传输设备;提供软件系统的研发、集成、数据分析服务,并提供相关技术转让、技术咨询、技术服务;从事上述各类商品及技术的进出口业务.(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
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