原子层沉积系统,粉末原子层沉积ALD

美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计， 使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

GEMStar XT 产品特点：

■  300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制

■  175℃ 温控150ml前驱体瓶，200℃ 控输运支管

■  可容纳多片4，6，8英寸样品同时沉积

■  可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

■  标准CF-40接口

■  可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

■  等离子体辅助ALD插件

■  多种配件可供选择

GEMStar XT 产品型号：

GEMStar -4 XT：

■  大4英寸/100 mm基片沉积

■  单路前驱体输运支管， 4路前驱体瓶接口

■  不可升为等离子体增强ALD

GEMStar -6/8 XT：

■  大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积

■  双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口

■  可升为等离子体增强ALD

GEMStar -8 XT-P：

■  大8英寸/200mm基片沉积

■  双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口

■  装备高性能ICP等离子发生器

13.56 MHz 的等离子源非常紧凑，只需风冷，高运行功率达300W。

■  标配３组气流质量控制计（MFC）控制的等离子气源线，和一条MFC控制的运载气体线，使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。

GEMStar NanoCUBE：

*  大100 mm 立方体样品 沉积

*  单路前驱体输运支管， 2路前驱体瓶接口

*  主要用于3D多孔材料，以及厚样品的沉积

多样品托盘：

* 多样品夹具，样品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。

* 多基片夹具，多同时容纳9片基片。

温控热托盘：

* 可加热样品托盘，高温度500℃，可实现热盘-热壁复合加热方式。

粉末沉积盘：

臭氧发生器：

 真空进样器（Load Lock）

 晶振测厚仪

 前驱体瓶：

 前驱体加热套：