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日本lasertec株式会社
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解决方案
共聚焦显微镜+光刻胶+形状
应用领域
半导体检测样品
其他检测项目
膜厚及形状共聚焦显微镜和干涉仪是常用的表面形状测量仪器，具有无损，高精度等特点。
然而对于基板上的透明薄膜的凹凸形状，对于较薄的膜（1um上下），测量是受到基板反射光的影响，会导致测量失败。
如，在测量Si晶圆上的光刻胶的形状时。
为解决上述问题，我们推荐反射分光法，测量光刻胶的膜厚，从而得到表面形状信息。
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