电子显微镜镀膜技术简介

电子显微镜镀膜技术简介

在电子显微镜领域，为了提高样品的成像效果，需要对样品进行镀膜。在样品上形成金属导电层可以抑制电荷积累，减少热损伤，提高SEM检测样品拓扑结构所需的二次电子信号量。在X射线显微分析中，栅格上的支撑膜，复制品样品中背衬支撑膜的TEM观察，涉及到对电子束透明但同时具有导电作用的精细碳膜。要采用的具体涂层技术取决于分辨率和应用。

扫描电镜成像前需要涂层处理

材料样品(陶瓷、聚合物等。)导电性差或不导电性的需要碳涂层或金属涂层。样品在低温冷冻断裂后进行金属涂层处理(徕卡EM  ACE600冷冻断裂和徕卡EM  VCT500冷冻断裂)，并在低温扫描电镜下成像。

透射电镜成像前的涂层处理

formvar覆盖的TEM网格需要碳涂层处理以获得导电性。用辉光放电处理网格，否则溶液不会附着分布在网格上。将冷冻样品低角度涂上金属，然后在薄膜上涂上碳(徕卡EM  ACE600冷冻断裂或徕卡EM  ACE900冷冻断裂)，从而生成一个可以在TEM中成像的复制品。

溅射涂膜

扫描电镜的溅射镀膜是在不导电或导电不良的样品上镀上金(Au)、金/钯(Au/Pd)、铂(Pt)、银(Ag)、铬(Cr)或铱(Ir)等超薄导电金属涂层的工艺过程。溅射镀膜可以防止样品由于静电场的积累而积累电荷。溅射镀膜还可以增加扫描电镜中从样品表面检测到的二次电子数量，从而提高信噪比。扫描电镜溅射膜的厚度通常为2-20纳米。

扫描电镜样品上金属溅射涂层的优点；

减少显微镜的电子束损伤

增加热传导

减少样品电荷积累(提高电导率)

改善二次电子发射

减小电子束穿透深度，提高边缘分辨率。

保护对光束敏感的样品

碳蒸发

碳的热蒸发广泛应用于电子显微镜的样品制备。在真空系统中，碳源安装在两个大电流电极之间——无论是线还是棒。当碳源被加热到其蒸发温度时，一小股碳将沉积在样品上。碳蒸发在电镜中的主要应用是x光显微分析和透射电镜网格上的样品支撑膜。

电子束蒸发

金属和碳可以蒸发。电子束蒸发法可以获得最精细的涂层，这是一种非常定向的涂层工艺，其涂层面积相对有限。电子会聚在目标上，目标被加热并进一步蒸发。电子束中的带电粒子被去除。因此，具有非常低电荷的电子束击中样品表面。当热量减少时，带电粒子对样品的影响就会减小。几次操作后，电子源必须重新加载和清理。一般来说，当需要定向涂覆(投影和复制)或需要精细涂覆时，使用电子束蒸发涂覆。低温技术介绍

冷冻断裂包括一系列技术，可以揭示和复制细胞器和其他膜结构的内部组成，以便在电子显微镜下检查。冷冻蚀刻通过升华去除冰层，露出原本隐藏的膜面。

冷冻干燥，简称冻干处理，可以在高真空(升华)下除去冷冻样品中的水分。这样，可以获得干燥和稳定的样品，并且可以在电子显微镜下成像。

大束科技（北京）有限责任公司自主研发了电镜零部件，尤其是消耗型的部件都做到了国产化，例如液态镓离子源、电子源、钨灯丝、电子枪和离子枪配件、光阑、电镜上使用的各种电源等，可以完全替代进口产品。大束科技（北京）有限责任公司的可以量产的生产制造场地即将装修完毕投入使用，实现量产以后，在最极端的情况下，如果在国内已经安装的进口电镜原厂家不再提供配件，大束科技（北京）有限责任公司的产品可以保障国内这些进口电镜正常运行。