Vasco Kin原位纳米粒度监测仪强劲来袭

Vasco Kin原位纳米粒度监测仪强劲来袭

     “Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”强劲来袭，北京海菲尔格科技有限公司Hiferg Technology全自动化在线监测家族再添新势力。

法国CORDOUA Technology是一家致力于先进的纳米体系颗粒尺寸及Zeta电位表征的制造商，拥有独特的专利和创新的技术，与IFPEN法国石油学院，KIT卡尔斯鲁厄理工学院、以及ICS查尔斯萨德龙学院等有紧密的合作，是全球非接触式原位监测和分析纳米尺寸材料的先进制造商。

      “Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”以广为熟知的DLS动态光散射技术为基石，集成了稳定的光学单元、灵敏的APD检测器和灵活的非浸入式探头，结合专用的分析软件和数学模型，开发出性能卓越的、针对各类纳米体系中颗粒尺寸的原位监测系统。

“Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”不但保持了传统DLS动态光散射仪器的高灵敏度（粒径范围0.5 nm ~ 10μm）和宽适应性（样品浓度1ppm ~ 40%，视样品而定），还开创性地采用了非接触远程式探头，将DLS技术带入原位过程监测的广泛应用场景，增加了创新的时间关联功能：

• 时间分辨率：200 ms；

• 时间切片，可选取监测曲线中的任意时间段进行粒径分析；

• 高速原始数据采集，实时数据处理；数据可调用不同算法进行再分析

• 流体动力学分析。

相较于传统的实验室检测，“Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”的原位过程监测具备众多优势：

• 超低延时，无需频繁采样，原位监测纳米颗粒的变化过程；

• 操作简便，非接触式远程式探头，无需批量稀释，无需样品预处理（视样品而定）；

• 适用于各种高温（500-1000度），低温，磁场，高压（100bar），超临界，流动相等应用的过程表征  和动力学监控

• 方便快捷的和第三方设备连用，如反应釜，SAXS，SANS，HPLC，Microfluid Chip，NMR等…..

• 测试灵活，可根据样品浓度及透光性调整工作距离和散射角；

• 适用性好，配备背散射技术，原浓或深色的不透明样品同样适用；

• 集成化程度高，无运动部件，减少维护，使用成本低；

• 人性化设计，可更换探头，一机多能，一机多用。

“Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”可广泛应用于纳米级悬浮体系、各类脂质体、聚合物合成、结晶成核、纳米金属、原油萃取、凝胶质量改进、生物学研究和细胞分析等等，应用领域非常广泛。道达尔，赛诺菲，罗地亚、欧莱雅、CRPP、ENSPCI、INRS、陶氏化学、ARABLAB都是我们的用户。

除了“Vasco Kin原位纳米粒度监测仪”外，法国CORDOUAN还提供如下实验室检测设备：

• AMERIGOTM纳米粒径及Zeta电位分析仪

         AMERIGOTM是一款创新的分析仪，用于表征纳米颗粒悬浮液的颗粒尺寸和Zeta电位。

        粒度范围：0.5 nm~10 µm

        Zeta电位范围：-500~500 mV

        样品浓度范围：0.0001%~10%（w/%）

• VASCOTM纳米粒径分析仪

         VASCOTM是一款使用了专利背散射系统的纳米粒径分析仪，可测量无稀释的深色、原浓样品。

        粒径范围：0.5 nm~10 µm

        样品浓度范围：0.0001%~40%（%vol）

• WALLISTM Zeta电位分析仪

          WALLISTM是一款基于LDE高级激光多普勒电泳技术的高分辨率Zeta电位分析仪，用于纳米颗粒和胶体的电荷表征，是研究胶体悬浮液的稳定性和纳米颗粒的电泳性能的理想工具。

        Zeta电位范围：-500~500 mV

        样品浓度范围：0.0001%~10%（w/%）