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超高真空多功能磁控溅射系统是一种用于物理学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2010年9月9日启用。极限真空:系统经48小时连续烘烤抽气后,其极限真空可达≤6.6×10-6Pa(5×10-8Torr)。 系统抽速:从大气开始抽气,在≤30分钟内,离子束室真空度≤6×10-4Pa。 磁控溅射室: 采用离子束溅射室:溅射离子枪引出栅直径Φ80mm,束流控制范围0~150mA;辅助沉积离子枪引出栅直径Φ60mm,束流控制范围0~120mA;样品*大尺寸Φ40mm接收溅射粒子沉积成膜。样品可连续回转;样品加热*高加热温度800℃±1℃。 进样室: 可放置6片(Φ40)样品,可上下升降,可对样品基片加热至850?C。
该设备为三室立式结构的超高真空多功能磁控与离子束联合溅射镀膜制备设备,可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等。系统主要由磁控溅射室、磁控溅射靶2英寸4个、直流电源、射频电源、离子束室等组成。该系统具有离子束溅射镀膜、磁控溅射镀膜、样品清洗及退火处理功能,每种沉积方式都有可以间替地对多种材料进行沉积。
企业名称
武汉赛斯特精密仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
420102000505809
成立日期
2016-06-17
注册资本
1000
经营范围
仪器仪表及设备、检测仪器、分析仪器、电子工业专用设备、第一类、第二类医疗器械、电力设备、电气设备、实验设备及耗材、新能源电池检测仪器及设备、机电设备、机械设备、办公自动化设备、新能源设备、电脑设备及耗材、办公设备、监控设备、数码产品、电子产品的研发、销售、技术咨询、技术服务及售后服务;建筑材料、五金交电、化工产品(不含化学危险品)的销售;环境工程设计、施工;计算机软硬件系统设计及技术服务;货物或技术进出口(国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外)。(依法须经审批的项目,经相关部门审批后方可开展经营活动)
公司地址
江岸区兴业路136号工业厂房(二期)1栋12层车间1
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公司名称: 武汉赛斯特精密仪器有限公司
公司地址: 江岸区兴业路136号工业厂房(二期)1栋12层车间1 联系人: 左经理 邮编: 439000
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