关注
已关注
已认证
粉丝量 0
公司简介
资质荣誉
手机扫码查看
核心参数
产地类别: 进口
热门推荐
Diener P30 聚对二甲苯涂层系统
大气等离子镀膜防水清洗机
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
磁控溅射镀膜机的工作原理要从一开始的“溅射现象”说起。人们由起初发觉“溅射现象”发展至“溅射镀膜”此间历经了相当长的发展时间,溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了。不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究,认为这种现象是有害的。直到20世纪,才有人证明了沉积金属是阴极被正离子轰击才溅射出来的物质。20世纪60年代时溅射制取的钽膜出现。到了1965年出现同轴圆柱磁控溅射装置和三级溅射装置,20世纪70年代,平面磁控溅射镀膜设备被研发出来,实现了高速低温溅射镀膜,使溅射镀膜一日千里,进展飞快。
磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶是采用静止电磁场,而磁场是曲线型的,对数电场用于同轴圆柱形靶;均匀电场用于平面靶;S-枪靶则位于两者间。各部分的原理是一样的。
电子受电场影响而加速飞向基材,在此过程中跟氩原子触发碰撞。如果电子本身足够30eV的能量的话,则电离出Ar同时产生电子。电子依旧飞向基材,而Ar受电场影响会移动到阴极(也就是溅射靶),同时用一种高能量轰击靶的表面,也就是让靶材发生溅射。
在这些溅射粒子中,中性的靶分子或原子会沉积在基片上而成膜;而二次电子在加速飞向基材时,在磁场的洛仑兹力影响之下,呈现螺旋线状与摆线的复合形式在靶表面作一系列圆周运动。该电子不但运动路径长,还是被电磁场理论束缚在靠近靶表面的等离子体区域范围内。于此区内电离出大量的Ar对靶材进行轰击,所以说磁控溅射镀膜设备的沉积速率高。
伴随碰撞频次的增多,电子能量会逐渐变弱,电子也慢慢远离靶面。低能电子会沿着磁力线来回振荡,直至电子能量快耗尽的时候,受电场影响而终会沉积于基材上。
因为该电子的能量较弱,所以传给基材的能量较低,基材的温升作用不大。位于磁极轴线处的电场跟磁场相互间平行,第二类电子将直接飞向基片。但是,在磁控溅射镀膜设备中,磁极轴线处离子电流密度低,所以对于第二类包括电子数据很少,让基片温升效果较差。
磁控溅射镀膜机的基本原理是通过磁场使电子运动的方向改变,通过对电子的运动路径的延长及区域范围束缚,来增加电子的电离概率,更好地使电子的能量利用更有效。这便是磁控溅射技术的“高速”和“低温”的特性机理。设备始于1974年时J. chapin的研发成果,当时磁控溅射镀膜设备一经研发,其相较于别的镀膜工艺显得优越性较为突出,设备适用范围极广,可在任何基材上镀上任何物料的膜层。
企业名称
武汉赛斯特精密仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
420102000505809
成立日期
2016-06-17
注册资本
1000
经营范围
仪器仪表及设备、检测仪器、分析仪器、电子工业专用设备、第一类、第二类医疗器械、电力设备、电气设备、实验设备及耗材、新能源电池检测仪器及设备、机电设备、机械设备、办公自动化设备、新能源设备、电脑设备及耗材、办公设备、监控设备、数码产品、电子产品的研发、销售、技术咨询、技术服务及售后服务;建筑材料、五金交电、化工产品(不含化学危险品)的销售;环境工程设计、施工;计算机软硬件系统设计及技术服务;货物或技术进出口(国家禁止或涉及行政审批的货物和技术进出口除外)。(依法须经审批的项目,经相关部门审批后方可开展经营活动)
公司地址
江岸区兴业路136号工业厂房(二期)1栋12层车间1
客服电话
冷凝器、蒸发器脉冲试验台
机油冷却器脉冲试验台
流量阻力试验台
水爆破试验台
插快接头脉冲综合试验机
水压爆破试验机
常温爆破试验台
冷却水板脉冲试验台
油散热器脉冲试验台
隧道接触网零部件破坏荷重试验机
玻镁板抗折试验机
骨骼生物材料扭转试验机
海绵拉伸压陷硬度测试试验机
薄膜拉力试验机及检测设备
石英砂破碎率专用压力试验机
硬质橡胶抗压强度试验机
微机控制全自动航空插件插拔力试验机
全自动接插件插拔力疲劳寿命试验机
石膏砌块断裂荷载试验机
手机版:
磁控溅射镀膜机
沟通底价
提交后,商家将派代表为您专人服务
获取验证码
{{maxedution}}s后重新发送
公司名称: 武汉赛斯特精密仪器有限公司
公司地址: 江岸区兴业路136号工业厂房(二期)1栋12层车间1 联系人: 左经理 邮编: 439000
万能试验机 微生物自动分析仪
化工仪器 环保在线 阿仪网
仪器信息网APP
展位手机站
产品介绍 工商信息