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核心参数
产地类别： 进口
Hydrofluoric Acid Vapor Phase Etcher
氢氟酸气相蚀刻系统
MEMS领域设备：准干法氢氟酸气相蚀刻系统，4“、6”、8“范围适用。
氢氟酸蚀刻二氧化硅是微电子行业中的一道传统工艺，多以湿法为主，但是湿法工艺容易造成硅表面自然氧化层无法完全去除，进而影响金属和硅的欧姆接触。
本氢氟酸气相蚀刻是一套准干法工艺设备，通过对基底的加热，晶圆表面的水分可以很好的控制。由
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于晶圆完全不与液体接触，可以进行无粘着MEMS释放。
特点：
安全酸处理
可重复利用HF
晶圆夹紧机构
适于各种尺寸的晶圆
无需安装（装置在湿法酸工作台中使用）
上部向下晶圆蚀刻
背面保护
低运行成本
应用：
无粘着MEMS释放
结构减薄
SOI基底上的结构免切割释放
蚀刻速率从0到10 μm/hour可调（无粘着）
单面二氧化硅蚀刻（蚀刻过程背面保护）
4英寸产品型号：VPE100
6英寸产品型号：VPE150
8英寸产品型号：VPE200
蚀刻液：50%HF有机溶液
蚀刻速率：2-30 μm/hour
加热温度：35-60℃
反应室温度控制
在反应室内，二氧化硅的腐蚀速率随液体HF的温度略有变化。氢氟酸的温度取决于洁净室的环境温度。此外，在长时间的蚀刻过程中，HF会被加热，导致晶圆之间的蚀刻速率增加，直到系统稳定下来。为了稳定腐蚀速率，我们在容器中开发了一个温度可控的HF反应室。高频的温度可以通过附加的控制器来调节。
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企业名称
皕赫科学仪器(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
91310114062543297Y
成立日期
2013-02-07
注册资本
人民币1000.0000万元整
经营范围
许可项目:货物进出口;技术进出口;进出口代理。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)一般项目:仪器仪表、电子设备、机械设备、工业自动化设备、五金产品、电线电缆、金属材料、电子产品、办公用品、劳防用品、汽车饰品、家居用品、化工原料及产品(除危险化学品、监控化学品、烟花爆竹、民用爆炸物品、易制毒化学品)的销售,从事科学仪器技术领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务，仪器仪表租赁(不得从事金融租赁),机械设备、机电设备维修(除特种设备)。(除依法顺经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
皕赫科学仪器（上海）有限公司
公司地址
上海市嘉定区昌吉路156弄32号楼
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