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核心参数
组件类别： 其他
漫反射光谱是检测粗糙材料表面变化的一种非常敏感的方法。它对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。此低温反应室非常适合在精心变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量,并与 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光谱的祈祷万只龙头附件结合使用。
特征
设计用于从高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低温。
提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
包括
反应室
低压加热盒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR 配置)
带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的圆顶(UV-Vis-NIR 配置)
| MODEL NO. | NAME | |
|---|---|---|
| CHC-CHA-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (FTIR) | |
| CHC-VUV-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (UV-Vis-NIR) |
美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室
美国Harrick Praying Mantis反应室主要应用：在压力和温度控制范围内，允许漫反射测试，必须配套Praying Mantis漫反射附件
美国Harrick Praying Mantis反应室两种模式可选：
1、高温反应室(HVC)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度可高达910℃ (在真空条件下)。可选配高压穹顶加压至3.44MPa(25.8 ktorr)。
2、低温反应室(CHC-CHA)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度从-150℃至600℃ (在真空条件下)。
美国Harrick Praying Mantis反应室主要特点：
左右两个进/出气口，中间一个抽真空口
316不锈钢耐化学腐蚀
低压加热筒
K型热电偶
穹顶含有两个透红外光窗片和一个石英观察窗片
CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室 HVC高温反应室 低温反应室 高温反应室
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企业名称
皕赫科学仪器(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
91310114062543297Y
成立日期
2013-02-07
注册资本
人民币1000.0000万元整
经营范围
许可项目:货物进出口;技术进出口;进出口代理。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)一般项目:仪器仪表、电子设备、机械设备、工业自动化设备、五金产品、电线电缆、金属材料、电子产品、办公用品、劳防用品、汽车饰品、家居用品、化工原料及产品(除危险化学品、监控化学品、烟花爆竹、民用爆炸物品、易制毒化学品)的销售,从事科学仪器技术领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务，仪器仪表租赁(不得从事金融租赁),机械设备、机电设备维修(除特种设备)。(除依法顺经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
皕赫科学仪器（上海）有限公司
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上海市嘉定区昌吉路156弄32号楼
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