无掩膜光刻机 UTA-IA

·显微镜LED曝光单元UTA系列是用于光刻的图案投影曝光设备，其不需要掩模。 （无掩模曝光装置）
·使用金属显微镜和LED光源DLP投影仪，在涂有抗蚀剂的基板上投射几微米分辨率的任何图案并进行曝光。
·可以在个人计算机上自由创建图案。
·因为可以在大气中各种尺寸和形状的层状材料的单晶薄板上形成电极。比电子束光刻更便宜和容易，也不需要   制造昂贵的电极图案掩模。 （当分辨率约为几微米就足够了）      

    主要用途：电极形成薄膜FET和霍尔效应测试样品的的电极形成，从石墨烯/钼粗糙原石中取出剥离的（薄）片并评估原石特性的电极形成。向研发应用的模式形成     特点：由于显微镜和DLP的结合，可以比现有的无掩模曝光设备更低成本的去构建系统
          易于使用的专用软件可以轻松创建曝光模式
          利用物镜的放大倍数，可以从精细图案到大面积的一次性曝光
          能做到几微米的分辨率（几微米的图案模式）

  曝光范围： 最大2.5mm×1.5mm

     　　  最小100μｍ×60μｍ

※和ARM300显微镜配套时候的数値

　Cmount0.57X使用時