1.测量原理

    系统采用可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）技术进行NH3的测量，以可调谐激光器作为光源，发射出特定波长激光束，穿过待测气体，通过分析被测气体中NH3分子吸收导致的激光光强衰减，根据朗伯比尔定律，气体浓度与其吸收光强成比例关系，从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH3浓度。因为激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发出待测气体吸收的特定波长，使得测量不受测量环境中其它成分的干扰，相比其它复合光源而言，具有极高的测量精度。

2.测量方案

    根据固定污染源氨逃逸测量点温度不高、测量浓度低、测量精度要求高等特点，方案沿用了大方科技经典的近位抽取+多反长光程测量池技术，并进行一体化设计，设备直接安装在烟道上，空间占用小。

    系统由取样分析单元和仪表组成，一体化设计，安装于烟道上，烟气经采样探头取样后直接进入设备样气室进行测量分析，无须伴热管线。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道振动等对测量的影响。近位抽取方式则避免了伴热管线传输造成的响应时间的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热，保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室，测量光程可达20米，可大大提高检测下限。

3.系统特点

3.1 采用TDLAS技术，不受背景气体影响

系统采用可调谐二极管激光吸收光谱技术进行气体的测量，由于激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发射待测气体吸收的特定波长，使测量不受测量环境中其它成分的干扰。

3.2 系统无漂移，避免了定期校正需要

系统采用波长调制光谱技术，并且进行动态的补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象。

3.3 全程高温伴热，避免氨气吸附损失

 抽取式测量的分析方式采用全程高温伴热，确保无氨气吸附损失。

3.4采用多次反射样气室，极大地提高测量精度

    系统采用多次反射测量池技术，光程可达20米，极大地提高了测量精度。

3.5可靠性高，运行可靠

 分析系统无任何运动部件，极大地增强了可靠性。分析仪采两级菜单操作，人机交互界面友好，根据界面提示可不需要说明书就能掌握仪器的基本操作。经预处理抽取测量，仪器寿命长，维护方便，运行费用低。

3.6安装调试灵活

分析系统适合安装在不同工业环境下，模块化设计，安装方便，开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试。

3.7专利技术，便于维护光学器件

大方科技特有的样气室设计，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，无需重新调节光路，让维护更加快速方便。

3.8 仪表自检及自恢复功能

大方科技分析仪带有智能自检及自恢复功能，软件可以自动探测分析仪的测量异常状态，可以通过自检及自恢复，使分析仪重新恢复最佳测量工作状态。

4.系统技术指标