等离子处理设备介绍

等离子体是一种离子化的带电气（团）体。中性气体分子在电场中受到电场能的激发作用，从而离解成原子、分子、离子、化学活性较高的自由基、电子、光子及短波紫外的活性状态。在持续不断的能量激发（直流或交流电及电磁波）下就产生等离子体状态。氧气等离子包括的高活性自由基有 O₃臭氧、O^-，O^2- 负离子、紫外光光子、O⁺，O²⁺， O⁺₂ 、电子等等。通过高活性自由基对表面的物理溅射、化学反应和紫外辐射的作用，等离子体可以进行精细化的纳米层级的清洗、活化、刻蚀和涂层。

常规的等离子处理设备分为两类，一种是在低真空条件下激发等离子体，另一种在常压下产生等离子体。

低真空等离子表面处理仪器：在一个密封的低真空腔体内下产生的等离子来进行表面处理改性，工作压力范围一般在0.5～2毫巴之间。

大气/常压等离子表面处理仪器是基于高频转换器原理将240伏或400伏左右的电压在等离子频率发生器中调制成高频率并产生高压电弧，同时反应气体穿过电极，离子化后作为高能的等离子体离开电极喷射出来形成等离子射流/焰。

低真空等离子处理设备和常压等离子处理设备都是利用高活性自由基对表面的物理溅射、化学反应和紫外辐射的作用对材料进行精细化表面处理。其中低真空等离子处理设备不仅可以进行清洗活化，在特殊配置后还可以进行刻蚀、涂层。常压等离子处理设备多用于材料表面清洗活化，因其灵活性和连续性，在各种移印、粘接、焊接的生产线上广泛应用。

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