关于高性能角分辨阴极发光成像的网络研讨会

关于高性能角分辨阴极发光成像的网络研讨会

主题：高性能角分辨阴极发光在纳米材料科学，地质学和纳米光子学的应用

时间：6月21日星期三：悉尼时间3时（AMS时间早上7点）

主讲：DELMIC的内部应用专家Dr. Toon Coenen

注册参加：Webina点击注册（http://www.axt.com.au/angle-resolved-cathodoluminescence-webinar-registration/）

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我们很高兴地宣布，我们将于6月21日下午3点（AEST）举办阴极发光网络研讨会（CL）。网络研讨会将重点覆盖使用阴极发光研究纳米光子学，地质学和纳米材料科学。参与者将有机会了解不同类型的CL技术，以及它们如何适用于不同的研究领域。之后，将展示delmic公司SPARC系统的实验设置以及如何实现角分辨CL成像。研讨会也会演示纳米光子学，材料科学和地质学领域的几个真实案例，期望给您一个直观认识。

最近，电子束光谱技术已经成为纳米科学研究的强大工具，因为它能够生成，探针和控制远低于光衍射极限的光谱的能力。利用电子束超高的空间分辨率的优势，结合电子束激发与光谱新技术，可以实现很多高端研究的应用。在电子显微镜内收集电子束激发辐射的高空间分辨阴极发光（CL），在纳米科学研究领域有着潜力巨大的应用。

长期以来，CL光谱主要用于地质学分析和矿物鉴定。但在过去二十年中，其应用范围已经显著拓展。近年来，它已经被应用于研究纳米材料科学，地质学和纳米光子学领域中的金属，半导体和电介质（纳米）材料的光学性能，包括等离子激元和超材料。

我们开发的CL光谱的特殊功能，可以有效地测量光谱光强和波长以及发射角度分布（ARC-angle-resolved Cathodoluminscence）。

关于演讲者

网络研讨会将由DELMIC的应用专家Dr. Toon Coenen主持。 Toon在University College Utrecht。在获得理学学士学位后，他继续在University College Utrecht学习化学和物理学，并在2010年获得硕士学位。后师从著名纳米光子学教授阿尔伯特·波尔曼（Albert Polman）在阿姆斯特丹的研究所FOM Institute of AMOLF，并于2014年荣获博士学位。在那里，Toon Coenen合作开发了第一个版本的SPARC阴极发光成像系统，并用它来研究各种金属和电介质纳米结构的纳米尺度光学性能。在他的博士学位期间，他也是斯坦福大学马克·布朗斯马教授课题组的访问学者，主要关注等离子激元结构材料的EELS研究。目前他在Delmic担任阴极发光成像应用专家，开发阴极发光应用和持续改进阴极发光成像系统。

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