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SPM-FIB-SEM系统联用在集成电路失效分析中的应用

2019/01/19 15:22

阅读:299

分享:
应用领域:
电子/电气
发布时间:
2019/01/19
检测样品:
电子元器件产品
检测项目:
失效分析
浏览次数:
299
下载次数:
参考标准:
2.5nm

方案摘要:

相关探针和电子显微镜(CPEM)是一种结合扫描电子显微镜(SEM)和扫描探针显微镜(SPM)的新技术。 集成电路中的目标层可以通过SEM和SPM在同一地点,同时和相同的协调下进行分析系统。CPEM图像包含表面形貌信息以及典型的SEM细节,SPM / FIB / SEM技术的集成显着简化了用于故障分析,质量控制和集成电路研发的去层过程.

产品配置单:

分析仪器

Nenovision原子力显微镜(电镜原子力关联)

型号: LiteScope™

产地: 捷克

品牌:

¥100万 - 150万

参考报价

联系电话

方案详情:

SPM-FIB-SEM系统联用在集成电路失效分析中的应用


相关探针和电子显微镜(CPEM)是一种结合扫描电子显微镜(SEM)和扫描探针显微镜(SPM)的新技术。 集成电路中的目标层可以通过SEM和SPM在同一地点,同时和相同的协调下进行分析系统。CPEM图像包含表面形貌信息以及典型的SEM细节,SPM / FIB / SEM技术的集成显着简化了用于故障分析,质量控制和集成电路研发的去层过程.

3315528413255160551-14.jpg


质量控制,去层后的平面性,下图是晶体管接触层的SEM图像。

失效分析01.jpg

判定表面粗糙度

失效分析02.jpg

精确的SPM探针导航,深度剖析
SPM探针接近晶体管接触层。


失效分析03.jpg


晶体管接触层的SPM(AFM)图像,RMS粗糙度2.5纳米。


深度剖析



相关成像,表面表征
通孔层的SEM,SPM(AFM)和CPEM图像,RMS粗糙度为3.3nm。

3D逐层重建



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