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应用 | 半导体芯片制造过程中含钴废水在线监测解决方案
金属材料在芯片工艺的演进中发挥着重要作用。为了适应集成电路芯片特征尺寸（线条宽度）越来越小的工艺要求，对芯片金属互连的材料也有新的要求。在10nm以下的先进制程中，金属互连的材料从铜逐步转向钴。
DISCHARGE STANDARD OF WATER POLLUTANTS
半导体芯片制程产生的含钴污染物全部进入废水和固体废物中，制造企业通常设置专用管道将钴制程机台产生的含钴废水收集后进行处理。国内相关污水排放标准，如北京市《水污染物综合排放标准》中已对车间或生产设施废水排放口总钴浓度作出规定，限值为0.1mg/L。
PART
MODERN WATER MICROTRACE™
MicroTrace OVA7100在线重金属分析仪基于先进的电化学伏安法测试技术，可对样品中低浓度的钴和其他重金属元素进行精确的全自动测定。国内某大型先进制程芯片制造厂已在其工艺段和废水总排口安装OVA7100分析仪对总钴进行在线监测，目前仪器已稳定运行超过1年。OVA7100分析仪安装、维护简便，可按用户设定频率自动进行分析，确保排放水质始终满足限值要求。，时
● 支持检测23种重金属元素
● 检出限低至 0.1μg/L
● 24小时不间断高频率监测
● 支持多种通讯协议，与现有系统容易集成
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