SAT与SST在半导体清洗工艺中的应用

2014-08-12 10:04

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资料摘要：

随着半导体产业升级，快速发展，各个芯片生产商间的竞争也不断加剧，尤其是产量和质量更为明显，为了促进生产效率的提升，设备的产能要求也不断提升，而SAT、SST工作台的研发，满足了化学液清洗、刻蚀、去胶、干燥等多个工艺环节的需求，集多个工艺环节于一个工艺腔体，减小净化间使用面积、耗材使用量、人工操作时间，提高了生产效率"SAT应用广泛，可以用于晶片表面氧化物的去除、金属刻蚀、金属离子清洗去除"而SST则用于半导体工艺中的显影、光刻胶去除工艺"对集批量生产与降低生产成本优点于一体的这两种设备，对于半导体生产商来说是提高竞争力的首选设备，对此，各国对这类设备均进行了研究。

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