Pfeiffer Vacuum (普发真空)将于 Semicon Korea 韩国半导体展览会上展示其创新的真空解决方案

A4 系列新型干式真空泵

A 200 L 新型干式真空泵

ATH-M 系列新型磁悬浮涡轮分子泵

全球领先的真空技术供应商 Pfeiffer Vacuum (普发真空) 将于2014年2月12至14日参加韩国首尔举办的 Semicon Korea 韩国半导体展览会。届时参观者可到展台与 Pfeiffer Vacuum (普发真空) 就其创新真空解决方案交流意见。“我们很高兴能在 Semicon Korea 韩国半导体展览会上隆重介绍我们重要的新型真空解决方案。我们凭借这些新开发的产品树立整个真空行业的新标杆”，Pfeiffer Vacuum Technology AG 公司董事会成员 Matthias Wiemer 博士如此说道。Pfeiffer Vacuum (普发真空) 将在 D 厅 5730 号展台展示新产品：

A4 系列新型干式真空泵
A4 系列无油多级罗茨泵的抽气速度可达 100 至 1700 m3/h。这种节能且可靠的泵是应对半导体和镀膜工业中苛刻工艺要求的理想选择。耐腐蚀材料和较高的气体流量使此系列的泵最适用于，例如 CVD工艺。

A 200 L 新型干式真空泵
A 200 L 新型无油多级罗茨泵具有体积小、抽气速度快且时间短的特点。干式真空泵适合在洁净室内运行，最适宜用于洁净环境，如Load-Lock和Transfer工艺流程，以及其他无腐蚀性应用。此外，A 200 L 还易于集成到半导体生产设备中且在节能方面表现优异。

新型磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 系列磁悬浮涡轮分子泵采用一个有源 5 轴磁悬浮轴承来监测转子的位置。这种高级轴承技术在实现高速安静运转的同时，也能确保长期的稳定性和可靠性。高真空泵配备上的这项技术以及优异的抽气能力，使其成为半导体生产，特别是蚀刻工艺，以及许多其他工业应用的不二选择。

Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列新型干式真空泵