bruker x射线衍射仪 D8——面向未来的X射线衍射解决方案 X射线衍射（XRD）是在环境或非环境条件下从几乎任何类型的样品中提取结构信息的首选方法，而不论其形状、大小或成分如何。因此，对一流X射线衍射仪的最主要需求就是绝对开放的设计和彻底的模块化，以及最大限度的用户友好性、操作方便性和搬运安全性。 D8 ADVANCE将前沿的技术与全面的人体工学 设计和大限度的灵活性相结合。该系统可确保获得结果，并实现最短测定时间和最高分析性能。D8 ADVANCE是能充分满足用户分析需求的强有力的工具，可随时准备应对新挑战。 可测定的样品特性-物相组成  -晶体结构  -织构组成  -残余应力-短程有序 -微观结构  -晶格常数与晶格失配  -薄膜层厚 产品参数：

yamato功率半导体用陶瓷基板热阻测试仪TE100产品介绍产品可以根据国际ISO标准评价功率半导体/半导体材料提高了样品热特性（热阻）评估的准确性！产品特点·简化了功率半导体用陶瓷基板的热阻测试；·热阻测试方式的国际标准化（ISO4825-1: 2023-01）；·通过TEG芯片模拟功率器件的运行状态；·TEG芯片使用铂金探头，确保了温度测量结果的精准与稳定；·操作简便的Windows软件；·单个基板材料，以及模块结构的热阻都能够测量；使用范围主要面向电动汽车、充电桩、高铁列车等功率半导体领域，为半导体的高热传导设计做出贡献。也适用于陶瓷基板、传热材料、散热器等功率半导体部件。产品规格主体类型TE100对应样品尺寸 (ISO4825-1:2023-01标准)30 ×30 mm样品载荷10kg温度特性resolution ≧0.0 1 ℃电阻测量误差±0.1mΩ（70～130Ω)采样率100sampling/sec（max）电源电压AC100V・50/60Hz控制器尺寸W380× D470 × H180mm测量单元尺寸W380× D400 × H320mmTEG 芯片类型TEG 芯片热生成密度1KW/cm²最大输入功率about 25 0W温升速率1.4×10⁴K/sec尺寸W5× D5 × H0.35mm循环器（外部封闭系统精密循环器NeoCool）类型CFA302循环方法外部封闭系统循环冷却方法空气冷却温度控制范围−10～60℃供电能力AC100V・13.8A尺寸W380× D565× H725 mm

kashiyama SD系列真空泵   SDX600/SDT600/SDX1200/SDT1200 /SDX1800/SDT1800/SDH3000/SDH6000 ·采用新型加热器系统,增强了工艺耐用性·高标准产品规范·占地面积小·安全性高的可靠性设计 有产品购买需求，可联系021-62211270，021-62211270型号SDX600SDT600SDX1200SDT1200 SDX1800  SDT1800  SDH3000    SDH6000最大排气速度（l/min）10,000 18,00019,00030,000 50,000  100,000极限压力 （Pa）0.50.3 0.5N2 吹扫 （SLM）0 ～ 80冷却水（l/min） 3.04.03.04.03.04.04.04.0功率（kW）1.53.01.65 3.15 2.13.33.33.7 外形尺寸695x285x820850x380x950910x420x9001050x515x950

上海尔迪仪器科技有限公司有售 kashiyama NeoDry-G系列真空泵产品特点:·适合研究室等尖端领域 ·无负荷运行噪音小于45dB/36G：50dB（A）·选配Gas Ballast，水蒸气处理量增加10% ·采用IEC电源接口，电压AC100-220V ·搭载RS485通讯口，可以进行data通讯，·可以控制转速产品规格 型号NeoDry7GNeoDry15GNeoDry30GNeoDry36G最大排气速度（l/min）110250500600极限压力 [Pa]（气真阀关闭）5.0                                 1.0       1.0  0.7电源(50/60Hz)单相，AC100-240V气镇结构可选（可提供N2型号） 重量(kg)19222451外形尺寸mm360×196×196385×210×219 410×210×219475×298×260最大允许蒸汽湿度（g/H） 135                                                                              275   350噪声值  ≦45    ≦50  振动（μmp-p）   ≦8吸气口径NW25NW40功率极限压力下（kW）0.280.340.55

为进一步促进纳米表征领域的专家、学者、业界人士交流与学习，7月14日召开由布鲁克（北京）科技有限公司、上海尔迪仪器科技有限公司携手举办的2023合肥纳米表征用户会。本次培训会议围绕“原子力显微镜”“摩擦学”“纳米尺度红外光谱”等几个方面展开。会上，我们特邀四位布鲁克应用专家魏琳琳博士、李勇君博士、黄鹤博士、岳俊培博士出席会议并做出精彩的主题报告。全场掌声不断，与会人员还就纳米表征领域遇到的疑难问题与四位专家进行了交流探讨。下一步，上海尔迪仪器科技有限公司将继续举办相关会议，与客户共享前沿的行业资讯及专业知识，期待与您在现场相见。

冷等离子体装置旨在集成到现有的生产系统中，因此具有紧装、安全和高效的设计,它特别适用于粘合、印刷和胶合等工序的预处理，从而在同等程度上确保工艺和产品质量。由于其独特的紧装和坚固设计，piezobrush PZ3-i以快速、简便地集成到生产线以及部分甚至全部自动化系统中。此外，还可以对自动化生产过程进行全面的过程控制，从而保证可追溯性。piezobrush Pz3-i该设备还可以直接地进行操作并且无需工具，即可维护! 应用领域·喷墨、标记和移印印刷·环氧树脂、聚气醋和气基内烯酸醋等的粘合工序·灌封和分配技术·连接和组装技术·实验室和医疗技术·包装技术·微生物、微流体以及食品生产·各种基材表面的活化·粘合、印刷和胶合工艺的优化·塑料、玻璃、陶瓷、金属、复合材料和天然材料的表面处理·针对性提高各种表面的润湿性·表面精细洁洗·替代化学底漆、火焰工艺和机械粗化

Bruker纳米表面与量测部门始终致力于为客户提供纳米表征的优解决方案，以独有的技术、科学的管理和市场导向的产品推动了纳米表征领域的科学发展。为促进纳米表征领域的专家、学者和业界人士的深度交流和融合创新，提供理论研究和成果分享的学术交流平台，共享最前沿的行业资讯和趋势分析，定于2023年7月14日在安徽合肥市举办2023年Bruker纳米表征全国用户会议，会议特邀四位布鲁克应用专家做精彩的主题报告。本次会议由布鲁克（北京）科技有限公司、上海尔迪仪器科技有限公司携手承办。我们诚挚邀请您齐聚安徽合肥，共商前沿科学问题！会议信息会议日期：2023年7月14日地址：安徽高速开元国际大酒店（安徽省合肥市蜀山区合作化南路88号）联系人：李志鹏联系电话：18621321000主讲人员本届会议特邀四位布鲁克应用专家做出精彩的主题报告。魏琳琳博士：纳米尺度红外光谱和成像技术及其在各领域的应用李勇君博士：原子力显微镜的高级功能模式、联用技术及应用黄鹤博士：不同（跨）尺度下的摩擦学研究方法探讨岳俊培博士：原子力显微镜在能源转换与储存方面的应用介绍报名通道长按识别小程序登记信息报名参与会议

Diener electronic通过低压等离子系统，为您提供在牙科专业领域所量身定制的解决方案。 以下材料均可以使用等离子体进行活化、消毒和蚀刻： PEEK、PEKK、Acetal (POM)、PE、PA、或 PMMA、金属 (EM, NEM, Titan)、锆和陶瓷。  在牙科工作中使用低压等离子体进行表面处理的优势： 活化和蚀刻以获得更好的附着力✓ 等离子体可以根据形状将高性能塑料（例如：PEEK/PEKK） 与其他材料无缝组合。  ✓ 通过使用离子化的氧气-氩气-混合气对表面进行活化和蚀刻，在诸多情况下均可省去底漆的使用。  ✓ 氧自由基会增加表面张力，并且用氩原子轰击会产生微喷沙效果，从而在形貌上改变纳米级表面并形成一个保留基层 。  ✓ 不使用增附剂，大大降低过敏性患者所面临的风险，并且对实验室来说，其较为低廉的成本也会成为具有强吸引力的优势。  减少细菌为什么建议在使用等离子体植入之前对基台和部分结构进行处理？ 在结束牙科实验室中进行的生产过程之后，部件可能会受到例如碳氢化合物、残油、酸和矿物成分的污染。尽管在送至种植中心之前会在牙科实验室对其进行各种清洗工艺流程，但是仍会有其中一些残留物留在表面上。若未完全清除这些污染物，则可能会造成患者（尤其是过敏性患者 ）的过敏反应。  在低压等离子体中产生的离子轰击，可通过物理/化学工艺流程清除纳米范围内的有机污染物。细菌和病毒将被杀死，然后转化为气相并通过真空泵抽出。  基台以及所有修复的上部结构和超结构、牙齿修复工作、 牙科辅助用品、齿桥、假牙、夹板和正畸矫治器，均可使用低压等离子体进行消毒。  同时，也适用于可能受到真菌感染的修复体、支撑的假牙、塑料假牙、局部假牙和种植义齿。 Diener electronic为您提供以下适用于牙科领域的系统： DENTAPLAS PC: PC 控制系统。可通过 USB 接口读取以最佳等离子参数、工艺流程记录执行的全自动工艺流程。 优势：  ✓ 操作简单、安全 ✓ 可选择材料经过优化的预定义工艺流程 ✓ 轻触按钮，即可自动执行工艺流程 ✓ 集成式真空泵 ✓ 工艺温度低 ✓ 两种工艺气体（氧气和氩气） ✓ 可通过 USB 接口读取工艺数据 DENTAPLAS MA:我们价格合理的入门级手动操作机型。等离子体功能、工艺气体供给和技术性能与 DENTAPLAS PC 型号相同。 优势：  ✓ 操作简单、安全 ✓ 集成式真空泵 ✓ 工艺温度低 ✓ 两种工艺气体（氧气和氩气） DENTAPLAS IMP: 在实践中用于 Chairside 应用的特殊系统。对基台、牙科辅助用品和假牙进行快速超精细清洗和活化。 优势： ✓ 操作简单、安全 ✓ 集成式真空泵 ✓ 工艺温度低 ✓ 一种工艺气体 （氧气或氩气） 

2023 Medtec China展（国际医疗器械设计与制造技术展览会）将于6月1-3日在苏州国际博览中心B1-E1馆隆重召开。 届时，上海尔迪仪器科技有限公司将于苏州国际博览中心C1号馆：展位号C1-V109 静候您的莅临。尔迪仪器诚邀广大客户朋友们前来展位参观、观摩及洽谈合作！ 

上海尔迪仪器科技有限公司产品目录已经上传至官网，有需要的朋友可于官网自行下载！ 下载步骤01.登录上海尔迪仪器科技有限公司官网：http://www.verdegroup.cn/02.点击导航栏【服务支持】>【产品目录】03.文件下载列表点击【上海尔迪仪器产品目录】进行下载 包括yamato、diener、bruker、kashiyama、honle、kruss等多个品牌，近百种型号的详细资料！解答您对产品的所有疑问！【Diener 等离子清洗机、聚对二甲苯涂层层系统、手持式等离子清洗机、Kashiyama真空泵、常压等离子处理设备】

一、台阶样板该类样板主要用来校准台阶仪、光学轮廓仪、原子力显微镜等各种台阶高度测量仪器。台阶高度范围：10nm～100μm；台阶区域表面粗糙度Sa：优于5.0nm；台阶区域均匀性：优于15nm；台阶样片尺寸：10mm×10mm。序号台阶标称高度110nm220nm330nm450nm5100nm6200nm7500nm81000nm92μm105μm1110μm1220μm1350μm14100μm 二、光栅样板该类样板主要用来校准扫描电子显微镜、原子力显微镜等各种线条尺寸测量仪器。样片类型：一维光栅、二维栅格区域均匀性：优于15nm；尺寸范围：100nm～10μm（一维光栅）、2μm～10μm（二维栅格）线条直线度：优于10nm； 类型具体结构复合型光栅样板包含一维结构：100nm、200nm、500nm、1μm、2μm、5μm、10μm；二维结构：2μm、5μm、10μm微米级光栅样板包含一维、二维光栅结构结构尺寸：2μm、5μm、10μm 

先进的陶瓷X光管技术、高精度的 zl测角仪、 超高强度的探测器，再加上屡获殊荣的软件意 味着一个粉末衍射解决方案。当所有这一切都集中在一台桌面型衍射仪身上时，这就 是D2 PHASER!这种飞跃是如何发生？在小型化设计的同时 ，D2 PHASER又是如何实现她的高性能？ 首先，D2 PHASER得益于特别设计的最新的θ/θ高精度测角仪，该技术得到了 zl保护。传统衍射仪的所有 组成部分，包括标准化的陶瓷X光管、探测器、多功能 计算机的主机、屏幕、鼠标、键盘，以及水冷，现在都 可以集中在70x61x60cm这样一个空间内。 其次，D2 PHASER配备了DIFFRAC.SUITE 软件，无论是在研究领域，还是在工业领域，都可以非 常方便地实现数据的采集与分析。 最后，也是整台仪器的点睛之笔，D2 PHASER可以配 备林克斯 一维阵列探测器TM。这个在布鲁克D8系 列衍射仪上，被无数次证明其优异性能的高速探测器， 现在被原封不动地移植到了D2 PHASER身上，使得这 台小型衍射仪在性能和价格上达到了一个好的结合。 上述所有设计理念成就了D2 PHASER这样一 台性能优的桌面型X射线衍射仪，其性能甚至在一定 程度上超越了大型衍射仪，同时她还具有大型衍射仪所 不具备的特点：可以很方便的搬运、不需要庞大的基础设施，只需要的是一个电源插孔！ D2 PHASER – 桌面型X射线衍射仪 ，体积小，功能却很强大!产品优势·定性定量分析（包括无标样定量分析）·结晶度测定·物相特性分析（包括：晶胞参数、晶粒大小、微观应力等）·结构精修及粉末衍射解结构·工业标准尺寸(Ø 51.5 mm)、适合不同应用的样品架 

产品介绍|diener Parylene涂层系统P17了解一下Parylene涂层系统 技术参数：一、控制：Windows PC人机交互操软件，多种语言（含中文），用户密码登陆管理权限，工艺二维折线图实时显示，一键回复原厂设置，数据备份与还原功能，数据自动存储和导入导出功能，可储存100套工艺参数二、原料：沉积Parylene N、C、F-VT4型 三、沉积厚度：0.05~30um四、沉积室直径300mm,深度300mm五、转盘直径250mm,高度280mm，转盘转速0~100%可调节六、集成硅烷蒸发模块，压力与温度PID控制，实现Parylene涂层前硅烷沉积功能，可设定蒸发器预加热温度，到达设定加热温度后，开始硅烷蒸发程序，同时通过腔体压力判断检测硅烷蒸发量七、温度控制系统：1.装料舱门温度实时显示设定范围：室温~200°C2.蒸发器温度实时显示设定范围：室温~200°C3.裂解舱温度实时显示设定温度范围：室温~850°C4.沉积室温度实时显示设定温度范围: 室温~200°C5.硅烷蒸发器及管道温度设定范围：室温~200°C八、真空系统：1.沉积室真空压力检测2.真空泵压力检测3.配有慢速抽气模块，可以设定慢速抽真空的时间；4.双级油式旋片泵，排气速度60m3/H，极限真空泵小于1*10-3mbar，噪音52bB(A),电源AC230V九、多重报警与报警设定功能：1.可设定蒸发器压力最大偏差、门温度最大偏差、裂解管温度最大偏差、压力传感器温度最大偏差、腔体温度最大偏差、硅烷蒸发器温度最大偏差、硅烷管路1温度最大偏差值；2.保养周期报警提示；3.转盘位置错误报警；4．详细的报警描述，方便判断报警原因；十、冷却方式：液氮和冷阱头两种方式冷阱头冷却方式：风冷冷阱头最低温度-100°C，冷头尺寸：直径50mm, 长度380mmRS485通讯模块，可以与主机通讯冷阱尺寸：W600xD550xH1200mm十一、尺寸与电源1. 外形尺寸：W1200xD700xH1100mm(不含真空泵与冷阱)2. 电源：AC380V 3P 32A如有需要diener plasma设备 ，可联系上海尔迪仪器科技有限公司 

我们诚邀阁下访问2023慕尼黑电子生产设备展我们将于2023年4月13日至 4月15日在上海新国际博览中心 N1馆 1138展位，恭候阁下莅临 

新产品有售！布鲁克三维光学轮廓仪ContourX-1000、NPFLEX-1000 布鲁克三维光学轮廓仪ContourX-1000落地式ContourX-1000白光干涉（WLI）系统集成了Bruker在硬件和软件上的新技术，可用于全自动三维表面纹理和粗糙度测量。  布鲁克三维光学轮廓仪NPFLEX-1000落地式 NPFLEX-1000 白光干涉（WLI）测量系统为精密制造业带来了灵活性、测量能力和性能，从而理解和控制制造过程。 布鲁克致力于让科学家能够取得突破性发现，并开发新的应用以提高人类生活质量。布鲁克的高性能科学仪器和高价值的分析和诊断解决方案使科学家能够探索分子、细胞和微观层面的生命和材料。凭借与客户的密切合作，布鲁克在生命科学分子研究、应用和制药应用以及显微镜、纳米分析和工业应用等领域实现了创新突破和生产力提升，并创造了诸多客户成功案例。

锂离子电池的生产制造是由一个个工艺步骤严密联络起来的，大体来说，包括极片制造、电芯制作以及电池组装三部分。在这三个制程中增加 PLASMA 技术可以提高电池制造工艺水平。  01 极片涂覆前等离子清洗机清洗：锂电池的正负极片是在金属薄带上涂覆锂电池正负极材料而成，金属薄带在涂覆电极材料时，需要对金属薄带进行清洗，金属薄带一般为铝薄或铜薄，原来的湿式乙醇清洗，容易对锂电池其他部件造成损伤，等离子干式清洗有效解决以上问题。 02 电池焊接前等离子清洗：利用等离子中的活性离子进行活化，以达到去除锂电池表面污染物的效果。可以有效去除电芯极柱端面的污物、粉尘等，为电池焊接做准备，减少焊接不良率。 03 电池组装过程中等离子清洗：为了防止锂电池发生安全事故，一般需要对锂电池电芯进行外贴胶处理，以起到绝缘的作用，防止短路的发生以及保护线路、防止刮伤。使用等离子工艺对绝缘板和端板进行清洗、清洁电芯表面脏污、粗化电芯表面，提高贴胶或涂胶的附着力。

从样本采集、运输到处理，Copan的液基方法是保证分析前过程成功的关键。一方面是利用液体的优势，大限度地释放样本，并将固体、半固体和粘性样本转化为液体形式。另一方面，WASP®通过专注于特定的从液体样品中获得佳性能的技术特性，从而达到好表现。WASP®在业内的佳实践反馈和超过10年的市场表现，让它能够与实验室技术人员协同工作，这样实验室技术人员便可以从繁杂的工作中解放出来，去做更重要的工作：培养分析。让WASP®成为您自动化微生物样本制备的得力助手吧。当微生物遇上分子诊断，Copan WASP®能将分子诊断自动化提升到一个全新的高度。WASP®是一套涵盖自动化样本处理各个方面的完整系统。WASP®将需要人工处理的重复性步骤实现了自动化，例如：·接种及划线·革兰氏染色涂片·增菌肉汤接种·K-B法纸片药敏WASP®为实验室工作人员节省大量时间。WASP®能做的远不止这些WASP®是实验室在灵活性、质量、优化流程管理，以及提升品牌声誉方面达到新高度的转折点。它保证了实验室工作的：·可追溯性·集成化工作流程·一次采样，多种检测·减少废物排放及材料浪费如有需要copan的拭子，可联系上海尔迪仪器科技有限公司

1.在真空状态下对物体表面进行气密性试验。2. 自动包装生产线上的真空拉出器打开包装袋并装载物料。3. 在真空抽吸和固定下制版。4. 利用压差指导真空状态下的气体分析。5. 真空抽吸和粘贴标签在纸箱和瓶子上。6. 真空吸盘夹具，用于加工非磁性零件的夹具。7. 各种塑料制品的真空吸塑成型。8. 在食品加工机械上的应用。9. 中、西药厂的真空蒸馏和干燥。10、各种容器在真空状态下的检漏试验。11、院校、研究所、厂矿实验室气体分析，理化实验

用于病毒采集、转运和保存的通用培养基Copan通用转运培养基（UTM®）系统用于采集、转运和保存含有病毒、衣原体、支原体和脲原体的临床样本。 UTM®通用性及自动化 UTM®能够兼容后续抗原检测和分子分析。研究人员既可以对样本进行手动处理，也能用Copan Universe™等实验室自动化平台进行处理。 UTM®便于实验室操作 使用Copan UTM®采集的样本可以在室温或冷藏温度下储存48小时，或者将需要延迟处理的样本冷冻储存。配有卡槽管帽的可直立的螺口锥形管便于样本处理，这些试管适用于大多数实验室设备。玻璃微球可加速样本从拭子中洗脱，锥形管可确保瞬时离心。 LBM®是适用于从微生物样本采集、保存、到运输等各个场景的容器。它的优势主要包括：通用性、即取即用、可定制化解决方案、非玻璃材质、以及采用高稳定性的培养基。 Copan通用转运培养基（UTM®）系统用于采集、转运和保存含有病毒、脲原体、衣原体和支原体的临床样本。  UTM®溶液富含蛋白质，糖分和酸碱指示剂。其独特配方含有抗生素和抗真菌药物，可防止细菌和真菌过度生长。 UTM®具有诸多优势 ·多种试管尺寸及大小，满足各类需求·内置玻璃微球带来最佳释放效果·与FLOQSwabs®完美结合·室温下保证样本高稳定性·冷冻状态也能保存样本·其病原体活性符合CLSI M40-A2标准  一个样本，多种检测 ·核酸提取平台及核酸放大测试·快速抗原检测·培养检测·直接荧光抗原检测 如有需要copan的拭子，可联系上海尔迪仪器科技有限公司

激光和LED发光，场致发光傅立叶红外光谱是用于分析激光、LED发光和场致发光的理想工 具。VERTEX 系列光谱仪具备业内最高的光谱分辨率，可解析激 光的精细结构。VERTEX真空型光谱仪可以彻底消除来自大气和 水汽的干扰。 · 表征连续激光、脉冲激光和LED光源，波数精准度业内最高· 光谱分辨率最高可达0.06 cm-1，为业内最高光谱分辨率· 可时间分辨的光谱测量，分辨率最高可达纳秒量级。检测器测试和表征VERTEX系列光谱仪可用于检测和表征自主研发的红外检测器。单元件检测器可以通过外部光学元件被适配连接至VERTEX谱仪的五个光路出口之一。对于FPA（焦平面阵列）检测器，VERTEX 配有专用的向下或向前的检测器测试模块。 · 单元件检测器的表征· FPA检测器的表征· VERTEX具有多个光路出口，用于适配各种FPA检测器测试模块 

用于科研和工业研发的近红外光致发光模块对于半导体和光电行业来说，光致发光PL是在研发过程中极 为重要的一个实验工具。在红外光谱范围，傅立叶红外光谱 仪比传统色散型谱仪的灵敏度要高得多。与VERTEX 傅立叶红 外谱仪联用的PLII 模块提供了业内最灵活和最强大的PL分 析方案。· 可实现对块状样品、量子阱和量子点样品的PL分析，在 4000 cm-1 (· 可添加第二个内置激发激光，也可结合外置特殊激发激光 使用。· 可选专用附件：扫描成像样品台，可摄像物镜，恒温器适配 器等。用于科研和工业研发的中红外光致发光模块在低于4000 cm-1 (>2.5µm)的光谱范围，PL信号将受到大气吸收以 及热辐射背景的严重干扰。利用VERTEX 80v 真空型红外光谱仪，并 结合专用的PL 真空模块，可以彻底消除上述两种因素的干扰，实现 4000 cm-1 至1000 cm-1 甚至更低光谱范围的中红外PL测量。 · 真空型傅立叶红外光谱仪可以在中红外谱区内 实现对块状样品、 量子阱和量子点样品的PL分析，消除大气的干扰，并可扩展至近红 外PL。· 先进的步进扫描功能结合调制技术可消除热辐射背景的干扰。· 可添加自动切换的光路，用于光调制反射和光调制透射实验。· 可选的恒温器适配器和激发激光，可与外置特殊激光结合使用。

FTIR傅里叶红外在硅材料分析中的应用用于超高灵敏度硅材料质量控制分析的顶级分析仪CryoSAS 是一款低温硅材料分析仪，可用于太阳 能和电子硅行业的超高灵敏度质量控制。它可以同时定量分析碳、氧以及浅层杂质（如硼、磷、砷等）。根据ASTM/SEMI标 准，CryoSAS操作简便，无需液氦等制冷剂。相比于传统的湿 化学分析法，CryoSAS更为快速、灵敏，并且对样品没有任何 损害。·对单晶硅中所含的第三、五族杂质（硼、磷、砷、铝、镓、锑） 的定量分析，检出限达ppta量级。·多晶或单晶硅中代位碳的定量分析，检出限达ppba量级。 ·多晶或单晶硅中间隙氧的定量分析，检出限达ppba量级。 ·全自动检测流程，自动分析数据、自动生成检测报告。用于硅材料质量控制的低温光致发光实验根据ASTM/SEMI MF1389标准，低温近红外光致发光（PL）实验可以用于单晶硅中浅层杂质（如硼、磷等）的定量分析。我们将高灵敏度VERTEX 80 傅立叶变换光谱仪和专为硅材料低温光致发光实验 设计的低温恒温器相结合，实现了低检出限小于1ppta的超高检出水平。根据 ASTM/SEMI MF1389标准，定量分析单晶硅中的硼、磷和铝含量。 用CVD方法制备的TCS（三氯硅烷）硅外延层也可进行PL实验，以实现TCS的质量控制。多种附加功能，如自动控制恒温器制冷、专用的PL硅材料QC软件、标准建模样品和第二个激 发激光。 

VERTEX 80和VERTEX 80v真空FTIR光谱仪采用主动准直的 UltraScan™ 干涉仪，能够为您带来光谱分辨率。高精度的线性气动轴承扫描仪以及光学元件为仪器的灵敏度和稳定性提供了保证。VERTEX 80v采用真空光学台，可消除大气中的水分吸收，从而实现灵敏度和稳定性，助力进行诸多高难度试验，如高分辨率、快速扫描、步进扫描或紫外光谱范围测量。 得益于VERTEX 80/80v 的光学设计，系统具备灵活性。布鲁克光学的DigiTect™技术，有助于避免外部信号干扰，保证了仪器的佳信噪比，这使得用户可以轻松重复地自行更换检测器。两个可选的外接检测器端口可安装辐射热测量计和/或热电子检测器的液氦杜瓦。与外接的水冷高功率Hg-arc光源相结合，即便是使用室温DTGS检测器，也能达到近期重新发现的太赫兹光谱范围。谱区扩展VERTEX 80/80v可通过配备各种光学选件，来覆盖从远红外或太赫兹开始，经中红外和近红外、可见光到紫外光的光谱区域。其预准直光学元件以及主动准直的UltraScan™干涉仪，使切换和维护变得十分简单。BMS-c： 布鲁克为VERTEX 80v真空光谱仪提供高精度分束器切换选件BMS-c。您可以在真空条件下，通过远程控制自动更换多达4种不同类型的分束器。现在，您无需泄光谱仪真空打开光学台来手动切换分束器，就能测量从紫外/可见光到远红外/太赫兹的完整光谱范围。 光学分辨率VERTEX 80 和 VERTEX 80v 标准配置提供优于 0.2cm-1的标点光谱分辨率，这足以进行大多数环境压力气相研究和室温样品测量。对于先进的低温工作，例如在晶体半导体材料或低压力下进行气相测量，提供优于 0.06cm-1 的 PEAK 分辨率。这是使用商用台式 FT-IR 光谱仪实现的高光谱分辨率。可见光谱范围内的高分辨率光谱显示分辨率（波数 + 除以光谱分辨率 ∆ +）更好的 300，000：1。 多功能创新的光学设计使灵活性和拓展能力佳的研究级真空FTIR光谱仪成为可能。借助真空光学台，该系统在中红外、近红外和远红外区域具有灵敏度，而不必担心那些非常弱的光谱特征因空气中的水蒸气吸收而被掩盖。VERTEX 80v 真空光谱仪能为您带来成果，例如在低至 10-3 单层的纳米科学研究领域。不仅如此，它的灵活性几乎不受限制。光学台的右侧、前侧和左侧布有5个光束输出端口，右侧和后侧有两个光束输入端口。因此，它可以同时进行连接：例如，后侧输入端口的同步辐射光源、右侧输出口的 PMA50 偏振调制附件、右前侧端口的光纤耦合模块、左前侧的辐射热测量计探测器以及左侧输出端口的 HYPERION 系列 FTIR 显微镜。VERTEX 80系列是要求苛刻的研究与开发应用的理想仪器。 全新附件： 布鲁克为VERTEX 80/80v FTIR 系列光谱仪提供了全新的新型宽带远红外/太赫兹分束器，拓展了分束器的选择范围。特别是在半导体和其它无机材料研究与开发应用中，由于全新的远红外固态分束器在单次测量中即可覆盖从900 cm-1 到5 cm-1左右的光谱范围，并且能够将中红外与远红外/太赫兹波谱范围连接起来，因此它还能带来更多价值。VERTEX 80和VERTEX 80v光谱仪是VERTEX系列的高端研究级仪器。其独具创新的光学设计使得强大的台式吹扫和真空光谱仪成为可能。它们能够提供从紫外/可见光（50000 cm-1） 到远红外/太赫兹（5 cm-1）的广泛光谱范围、高的光谱和时间分辨率以及灵活性。多功能VERTEX 80/80v 系统能够通过技术，为所有高端研究应用提供解决方案。 研究与开发用于幅度/相位调制光谱的连续和步进扫描技术用于高时间分辨率实验的快速、交叉和步进扫描技术（步进扫描 / 快速扫描 / 交叉扫描时间分辨光谱）对周期性有序微观材料进行表征用于气体分析分辨率优于0.06 cm-1的高分辨率光谱用于真空红外光束装置的系统化酶催化实验的停流方法外接高真空测量腔室用于电极表面和电解质原位研究的FTIR 光谱电化学 制药测定分子的绝对构（VCD）通过热分析对药物产品的稳定性和挥发物含量进行表征 (TGA-FTIR)远红外谱区区分活性药物成分多晶型 聚合物与化学远红外谱区识别聚合物复合材料中的无机填料聚合物动态和流变学研究测定挥发性化合物及表征热分解过程 (TGA-FTIR)反应监测和反应控制 （中红外光纤探头）识别无机矿物质和颜料 表面分析薄膜和单分子层检测与表征结合偏振调制进行表面分析 (PM-IRRAS) 材料科学光学和高反射材料（光窗、反射镜）的表征通过光声光谱学（PAS）研究深色物质和深度剖析材料的发射行为表征 半导体硅晶圆中氧和碳含量的测定浅能级杂质的低温透射和光致发光（PL）测量进行质量控制 外接附件、光源和检测器VERTEX 80/80v光谱仪配备了5个光束出口和两个光束入口，可连接外部激光器和同步辐射光源。此外，借助外部测量附件、光源和检测器，您可轻松升级光谱仪的光学系统。包括如下内容：用于VCD和PM-IRRAS的PMA 50偏振调制附件PL II 光致发光模块RAM II FT-拉曼模块和RamanScope III FT-拉曼显微镜TGA-FT-IR 联用HYPERION 系列 FTIR 显微镜HYPERION 3000 FTIR 成像系统HTS-XT 高通量筛选eXTensionIMAC 焦平面阵列宏观成像附件外部样品室XSA（真空或吹扫）外部真空密闭的高真空腔室(UHV)真空PL/PT/PR测量单元低温液氦或无低温液体恒温器带中红外或近红外光纤探头的光纤耦合单元（用于固体和液体）大型积分球自动进样器外部远红外Hg灯光源宽带中红外-远红外检测器固态远红外/太赫兹分束器外部发射适配器外部高性能中红外光源外部高性能可见光源外部真空4位检测器腔（用于真空光学系统）适用于远红外光谱范围检测的辐射热测量计自动分束器切换单元（BMS-c）（真空光学系统）上海尔迪仪器科技有限公司代理bruker多型号产品，有需要可联系电话021-61552797

plasma清洗机可以通过其等离子处理技术提高材料表面的润湿性，使处理后的材料可以方便、快速地进行涂覆、电镀、灰化等操作，增强附着力和粘结力，同时去除少量有机污染物、油或油脂。plasma清洗机的应用范围： 1、孔内胶渣去除：孔内胶残去除是目前广泛应用于PCB领域的等离子体技术工艺。孔中的胶渣是指电路板钻孔过程中聚合物材料高温熔化导致的孔壁金属表面的焦渣，而不是机械钻孔造成的毛刺和毛刺，必须在镀金前清除。 橡胶残渣也主要由碳氢化合物组成，这些碳氢化合物很容易与等离子体中的离子或自由基反应，生成挥发性的碳-氢氧化物，最终由真空泵系统进行。 2、特氟龙活化：特氟龙(聚四氟乙烯)导电率低，是确保快速信号传输和良好绝缘的良好材料。但这些特性使得电镀特氟龙变得困难。因此，在镀铜之前，特氟龙的表面必须通过等离子体活化。 3、碳化物处理：激光钻孔过程中产生的碳化物会影响孔中镀铜的效果。等离子可以用来去除孔中的碳化物。等离子体中的活性成分与碳反应生成挥发性气体，并通过真空泵抽走。 4、板面残胶处理：绿油工艺在显影过程中容易出现脏绿油显影或绿油残渣，表面可采用等离子法清洗；经过FPC压制/丝网印刷等高污染工艺后，铜表面会残留胶水，这很容易造成漏镀和变色等问题。等离子可以用来去除表面上残留的胶水。 5、清洁电路板表面：装运前用等离子体清洁电路板的表面。上海尔迪仪器科技有限公司代理diener等离子清洗机，更多详细资料，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797！021-61552797！

等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。  清洗原理：  等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。  在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的。  优势：  一、清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率；  二、等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；  三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在全球高度关注环保的情况下越发显出它的重要性；  四、采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而且对这些难清洗部位的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似甚至更好；  五、使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点。  真空等离子清洗机用途：  ·适用6寸以下样品的处理  ·用于硅片、玻璃、塑胶材料表面的处理  ·配置自动/手动模式，实现控制高机能  ·桌上型，省空间  ·适合于研究院、高校、研发中心使用  特点：  表面清洗活化  表面蚀刻  可以更灵活地操作，简便地改变处理气体的种类和处理程序；不会对操作人员的身体造成任何伤害；其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。 

x射线荧光光谱仪具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能分析F(9)～U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水平，分析时间短。 x射线荧光光谱仪的性能特点：　　1、针对不同样品可自动切换准直器和滤光片。　　2、任意多个可选择的分析和识别模型。　　3、相互独立的基体效应校正模型。　　4、多变量非线性回归程序。　　5、超薄窗大面积的SDD探测器。　　6、内置信噪比增强器可有效提高仪器信号处理能力25倍。　　7、抽真空样品腔，有利于低含量轻元素的分析。　　8、X射线荧光光谱仪是专业的水泥、钢铁、矿料等全元素分析，亦可用于镀层检测和RoHS检测。　　9、智能全元素分析软件，与仪器硬件相得益彰，且操作简单。 x射线荧光光谱仪的应用领域：　　冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色金属冶炼、加工和回收工业中的各种分析。全数字光源的应用，提高了样品的测量精度和相似性，提高了样品激发速度，-提高火花稳定性，使样品有更好的重现性。

马弗炉这个名词对于普通人来说可能比较陌生，但是在化工材料相关行业的从业人员的日常工作研究中，是个相当常用的实验室仪器。马弗炉是用保温性好的材料包裹住炉腔，这样炉腔升温时热量不容易散失，可以达到1000℃以上的高温。所以，马弗炉是高温加热用的专业设备，它最常使用的应用领域有：分析化学、医学研究、煤质化学、金属材料研究、陶瓷材料研究。Yamato马弗炉特点：陶瓷纤维内槽保温性能好，化学性质稳定。冷轧钢板，表面耐药品性涂装结构稳固、不易锈蚀。绝热性好拥有良好的绝热性，外壁温度低。顶部排气口保证使用时的安全性，对于实验结束后的散热，也有加快的效果。操作面板数字显示，上下键操作，设定简易。控制器数字设定与超温保护一体，温度过冲小，可实现全程高精度的温度控制。安全性发生异常时进行自诊断功能，漏电保护开关、按键锁功能等安全控制，保障实验操作的安全。温度传感器采用R型热电偶耐高温且性质稳定，设计使用寿命较长。上海尔迪仪器科技有限公司代理yamato设备，更多详细资料，可联系上海尔迪仪器科技有限公司

雅马拓科学的产业机器广泛应用于电子、半导体行业，随着科技发展、人民生活对电子产品的需求不断增加，国家也加大力度推进电子半导体产业的发展升级。在这个行业发展的大背景下，雅马拓科学产品凭借着优异的性能，为促进中国科学和经济的进步贡献了一份力，同时也收获了用户厂家诸多的良好口碑。  今天上海尔迪仪器科技有限公司为大家介绍的是DTN系列洁净厌氧高温气氛炉在聚酰亚胺生产工序中的应用。 在电子半导体领域中，两种聚酰亚胺的应用都需要与对象产品贴合，因此常见的加工工艺都是先将溶液涂覆在产品表面再进行加热，脱去其中的溶剂，让分散的聚合物交联固化。 这个固化工艺一般需要几个步骤：① 加热产品至100℃左右维持30分钟至1小时，除去溶液当中的水分；② 升温至200℃左右维持1至2小时，除去其他溶剂促进内部交联；③ 升温至300℃左右维持1.5小时以上，完成固化；④ 逐渐降至室温。 注：不同企业选择的聚酰亚胺种类不一样，用途也不同，加工工艺会有出入。而在新能源电池领域中，PI膜在制造过程中为保证其厚度均匀、性质稳定，往往也是需要涂覆在基质上固化来进行生产，它的固化过程比较类似光刻胶固化。 在聚酰亚胺整个固化过程需要温度不断变化，并且目标温度的精度要求较高，否则加工出来的成品中会残留气泡，还会有剥落的可能。此外，涂覆有溶液的状态下特别需要防止接触灰尘等悬浮颗粒，否则一旦吸附就会影响产品性能。 雅马拓洁净厌氧高温气氛炉拥有100级洁净度，同时控温精准，可以很好地对聚‘’酰亚胺进行固化。 值得一提的是PI膜由于成膜使用，它的内部若有气泡将会严重影响性能，因此也有部分厂家会选择真空干燥箱来做固化后续的脱泡干燥加工。雅马拓科学同样有一系列的真空干燥箱可供做后续工序操作使用。 上海尔迪仪器科技有限公司代理yamato设备，更多详细资料，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797！021-61552797！

布鲁克的 Hysitron TI 980 TriboIndenter 同时具有大性能、灵活性、可靠性、可用性和速度。这台行业的系统以数十年的 Hysitron 技术创新为基础，在纳米力学特性测试方面提供更高水平的非凡性能、增强的功能的多功能性。Hysitron TI 980 纳米压痕仪是在准确控制、测试带宽、测试灵活性、适用性、测量可靠性和系统模块化方面都取得了显著进步。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。  技术参数1）样品尺寸：≤100mm×100mm×50mm；  2）样品台移动范围：≤250mm×150mm；3）低载最大压入位移≥5μm，高载最大位移≥80μm；4）SPM原位扫描成像: 分辨率约100nm；5）高温样品加热台温度：≤600 ℃；6）环境温漂：≤0.05nm/s。 Bruker Hysitron TI 980应用行业：表征材料表面微/纳米尺度内的强/硬度、弹性模量，蠕变、应力松弛、断裂韧性、屈服强度（Pillars）、残余应力和结合力，测量得到材料载荷—位移曲线，主要应用于生物材料、金属材料、膜材料、聚合物材料、无机非金属材料等领域。 上海尔迪仪器科技有限公司代理Hysitron TI 980，更多详细资料，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797！021-61552797！ 

Bruker UMT摩擦磨损试验机介绍 布鲁克摩擦磨损测试机(UMT TriboLab)自2000年面世以来一直是市场上功能多、使用广的摩擦磨损试验机，已帮助50个国家的近1000个实验室解决摩擦学问题。新一代的UMT TriboLab™为用户提供更快的速度，更大的扭矩，更好的力测量，和灵活性。所有的功能都集成在一台机器。几分钟内，用户可以从旋转运动转为往复运动，从毫牛转为千牛力测量，从零下转为超高温试验环境。 应用领域：电路设计、半导体材料、光学材料及元件、芯片制造、先进制造、测试测量仪器、封装及测试、 半导体设备、半导体加工/制造等。 UMT TriboLab的技术优势： 1.稳定性，提供准确可靠的数据a)    可测量低于0.004摩擦系数b)    高数据重复性划痕试验测量涂层结合力c)  可迅速生成Stribeck曲线，评价油品性能2.杰出的模块化设计UMT TriboLab 具有模块化设计，提供4个运动驱动和12个环境腔，一台设备可以完成数百个不同的摩擦/磨损/压痕/划痕测试，并符合ASTM, ISO和DIN测试标准。大多数摩擦学测试仪器是单一功能的试验机，完成这些测试，需多台仪器。3.易用性a) 独有的自识别功能TriboID和人性化设计，模块更换1-3分钟内完成，简单快捷。b) 控制板安装于试验机主机中，不在计算机中。试验机主机与计算机只通过一根USB线连接。计算机可随时更换，消除因计算机损坏却不能更换导致试验机报废的可能性4.多种传感器a) 11个高灵敏二维力学传感器：1mN - 2000N测量范围b) 声发射传感器c) 接触电阻传感器d) 微位移传感器