ETInLineSys 在线椭偏测量系统（镀膜机专用）

特点:

• 快速在线镀膜样品测量
  可对样品进行快速在线监测，实时反馈镀膜的真实信息。
• 系统可选的灵活配置
  根据用户实际检测需求，可灵活选用激光椭偏仪、光谱椭偏仪部件等进行系统配置。
• 原子层量级的膜厚分析精度
  采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。
• 简单方便安全的仪器操作
  用户利用专业测量软件可方便地进行实时监测，丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。

应用:

  ETInLineSys可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；

  ETInLineSys可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；

  ETInLineSys可应用于：

• 真空离子蒸发镀膜机 
• 薄磁控溅射镀膜机量
• ALD原子层沉积镀膜机
• MBE分子束外延镀膜机
• PLD激光溅射沉积镀膜机