核心参数
产地类别: 国产
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ETInLineSys可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k;
ETInLineSys可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k;
ETInLineSys可应用于:
项目
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技术指标
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系统型号
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ETInLineSys
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结构类型
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在线式
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探头形式
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激光椭偏仪或光谱椭偏仪
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膜厚测量重复性(1)
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0.1nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率n测量重复性(1)
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5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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样品放置
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镀膜机内
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入射角度
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根据实际设计
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测量速度
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对于激光椭偏仪,典型0.2s~0.6s
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软件
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多语言见面切换
预设项目供快捷操作使用
运安全的权限管理模式(管理员、操作员)
方便的材料数据库以及多种色散模型库
丰富的预设模型数据库
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企业名称
北京量拓科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110108010916471
成立日期
2008-04-01
注册资本
100
经营范围
技术开发、技术推广、技术转让、技术咨询、技术服务、技术中介服务;销售电子产品、仪器仪表、机械设备;计算机系统集成服务(依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。)
北京量拓科技有限公司
公司地址
北京市经济技术开发区科创十二街 鸿坤云时代B1座1501室
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