多入射角光谱椭偏仪

特点：

• 原子层量级的检测灵敏度

  国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。

• 秒级的快速测量

  快速椭偏采样方法、高信噪比的信号探测、自动化的测量软件，在保证高精度和准确度的同时，10秒内快速完成一次全光谱椭偏测量。

• 膜厚测量范围大

  膜厚范围从次纳米量级到10微米左右。

• 一键式仪器操作

  对于常规操作，只需鼠标点击一个按钮即可完成复杂的测量、建模、拟合和分析过程，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的高级操作需求。

应用：

• ES03V适合于测量电介质材料、无定形半导体、聚合物等的实时和非实时检测。
• ES03U适合于很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体的临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。

• 平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
• 功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
• 生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等

• 玻璃新品研发和质量控制等。

技术指标：