光刻胶检测系统,光刻胶测试系统
用于检测光刻胶的光谱灵敏度(波长特性)。
这是一种光谱系统,它将连续的光(大约240纳米宽)照射到一种光敏材料上,例如光阻剂。标准配置两种光源。一种是能照射强线谱光的深紫外光灯,另一种是能照射连续谱光的氙灯。
规格
波长范围:波长波段一次照射约240nm
辐照有:高度方向:89mm(5-13步)
波长方向80mm(约240nm)
辐照时间:0.01-1200s
辐照步骤:1-13步
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企业名称
海埃飞电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
Q13101114MA1CT3KC5K
成立日期
2015-12-16
注册资本
人民币300.0000万元整
经营范围
从事电子技术领城内的技术开发、技术咨询、技术服务。家川山器、仪器仪表、电子产品、数码产品、电子元器件、通讯器材、安防产品,汽车饰品、通信设备及州关产品、计算机、软件及轴助设备、照明设备、灯具、汽车装配件、金属制品、玻成制品的销售,商务咨询,图文设计制作,公务服务,通信工程,网络工程,从事货物与技术的进出口业务。[依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
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上海市闸北区共和新路3699号共和国际A1707
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