徕卡高真空溅射镀膜仪 Leica EM SCD500
仪器简介:
*无油高真空系统,适合于高分辨率FE-SEM观察前样品镀膜机TEM/EDX喷涂要求;也可应用于制备多层膜样品
*功能:金属溅射镀膜/辉光放电/蚀刻(样品清洁)/碳丝蒸发镀膜/碳棒蒸发镀膜/金属热阻蒸发镀膜/加装液氮冷台(适配EM VCT100)
*带有金属靶档板,适用于特殊溅射靶材的预溅射,确保镀膜纯度
*可选配石英膜厚监控器,可程序化控制膜厚,并反馈镀膜仪
*样品室尺寸:标配Ø106mm,选配Ø205mm(可容纳wafer 152mm/6"圆形或127mm/5"方形)
*操作简单,带有LED指示,机身印有操作说明
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