用户单位
采购时间
采购数量
苏州大学
2010/12/02
4
哈尔滨工业大学
2010/06/22
1
苏州科技学院
2010/04/16
1
陕西师大
2010/01/27
1
新乡师范学院
2010/01/12
1
无锡申瑞生物制品有限公司
2009/09/28
1
郑州大学
2010/07/02
7
北京化工大学
2009/10/18
1
苏州大学
2008/07/10
8
广西师范大学
2008/03/11
1
开封职业高专
2008/06/18
1
中科院安徽固体研究所
2008/06/25
1
南昌航空大学
2007/12/02
1
郑州轻工业学院
2007/11/06
1
中科院北京电子所
2008/05/13
1
沈阳化工学院
2008/12/07
1
山西运城学院
2009/04/15
1
长春师范学院
2006/12/23
1
西北大学
2007/12/01
1
重庆有色金属研究所
2006/12/10
1
河南工业大学
2007/06/12
5
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彩页_RST3100电化学工作站
◆ 应用领域 电化学教学、电化学分析、电化学合成、痕量元素检测、电镀工艺开发、电池材料研究、环境保护 监测、纳米材料研制、电解、冶金、制药、生物电化学传感器、电化学腐蚀研究测量、超级电容特 性测试分析、电池化成及特性测试分析。
184KB
2011/12/15
RST电化学工作站实验例子_02_线扫溶出伏安法—同位镀汞膜同时测定饮用水中铜、铅、镉离子.pdf
这是一种根据溶出过程的极化曲线进行分析的方法,被称为“溶出伏安法”。因溶出过程是阳极过程,所以也称为“阳极溶出伏安法”。该方法由下面两个步骤实现: (1)富集过程:将被测物质电解沉积在电极上,生成汞齐或金属,也称电析。 (2)溶出过程:施加反向扫描电压,使富集在电极上的物质溶出。即把富集在电极上生成的汞齐或金属物质进行电化学溶出,使之重新成为离子回到溶液中。 所谓同位镀汞膜的方法,是在分析溶液中加入一定量的汞盐,在待测金属离子选择的电解富集电位下,汞与待测金属同时在基体电极(通常为玻碳或石墨电极)表面上富集形成汞齐膜,然后在反向电压扫描时,被富集的金属从汞膜中溶出,在扫描曲线上产生溶出峰。 影响峰电流大小的主要因素有:电极面积、富集电位、富集时间、汞膜厚度、富集时溶液搅拌速度、富集后的静置时间及溶出时的电位扫描速度等。因此实验中必须严格控制各参数。
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2011/10/02
RST电化学工作站实验例子_01_线性扫描循环伏安法—铁氰化钾溶液的氧化还原曲线.pdf
铁氰化钾体系(Fe(CN)63-/4-)在中性水溶液中的电化学行为是一个可逆过程,其氧化峰和还原峰对称,两峰的电流值相等,峰峰电位差理论值为59mV。体系本身很稳定,通常用于检测电极体系和仪器系统。
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2011/10/02
苏州瑞思泰电子有限公司
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