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氮氧化硅薄膜的研究进展

2011-03-15 10:34

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资料摘要:

氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能 ,在微电子、光学器件等方面有着重要应用。其 主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入。综述了该类材料的制备方法和应用研究进展 , 并指出了制备方法和应用研究的发展方向。

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上海昭沅仪器设备有限公司代理美国Plasma Etch 公司生产的等离子体表面处理设备。 专门针对于大学/科研机构、工厂研发的实验室型和工厂批量处理装置,具有移动方便、多 种配置功能、超高性能及稳定性、操作方便的特点。

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