KRI离子源

KRI离子源

KRI (Kaufman & Robinson, Inc) Ion Source (USA)



功能：

预清洁、优化工件表面，增加膜层附着力，增强多层镀膜能力，改善膜层聚密度，改善膜层光学特性。



特点：

1、高输出的离子束电流，能提高镀膜 速率。

2、经优化的离子束输出能量能减低基板表面受高能离子轰击而损坏的情况，使产品合格率得以提高。

3、宽广的离子束射出角度能覆盖更大的镀膜面积，用户能增加每炉基板数目，提高生产效率。

4、坚固及模块式的结构能降低维修成本及停机时间。

5、经广泛使用验证的直电流源令操作更简便，减少停机时间。

6、紧凑的外型设计，能令用户更方便地升级现有系统。

7、设有RS232接口与OEM自动化系统连接更便利。

8、无栅式设计无需更换及校准昂贵的栅极，更可减低维修成本。

9、体积细小，安装容易，备有灯丝阴极和空心阴极两种形式，适用于不同镀膜工艺。



应用领域：

KRI End-Hal1系列离子源产品能输出高电流但能量低的离子束，是表面处理及薄膜电镀工艺的理想工具。其使用范围包括：

1、离子束辅助镀膜 (IBAD)

2、基板材料预清洁及表面处理。

3、超硬碳质镀膜。

4、增加薄膜附着力和密度，及对温差和温度的稳定性。

5、改善光膜的折射指数、散射、吸光率等参数。

6、降低镀膜工艺温度要求。





KRI 离子源由世界知名的专家所开发，通过KRI公司在等离子物理、离子源设计、电源控制技术及工艺应用方面的丰富经验，EH 1000离子源集合了最新最先进的技术，保障在最严峻环境下仍能正常工作。

KRI专利创新的新一代无栅式离子源，其先进的技术及工艺经验能为各种镀膜工艺应用。

如今由于品质要求及控制愈来愈严紧，离子源需求因而愈来愈大。但一般离子源的网栅是一种非常昂贵的耗材，而使用KRI无网栅END-HALL离子源就可大幅减低备件费用而能提升产品质量！