核心参数
电子枪种类: 冷场发射
二次电子图象分辨率: 优于10nm@1kV
放大倍数: 250~130000
加速电压: 500V~2kV
背散射电子图像分辨率: 优于10nm@1kV
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SEM在MEMs中的应用
是德科技的FE-SEM 8500采用热场发射电子枪,为用户提供高亮度、高分辨的成像性能。独特的设计使其可以在1kV条件下达到优于10nm的分辨率。创新的全静电透镜设计保证了重复性,并无需定期的调校。FE-SEM 8500提供多种成像模式:包括二次电子成像、背散射电子成像和形貌成像。
半导体
2016/05/06
KLA-Tencor 科磊半导体
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