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由化学蒸气沉淀形成,转移到多碳孔支持膜横向电磁场的网格上,石墨烯悬浮没有底层,比碳孔高2微米。石墨烯薄膜生长方法:CVD合成、转移方法:干净转移,质量控制:光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签,大小:3毫米,外观(颜色):透明,透明度:>97%,外观(形状):薄,覆盖率:>95%,石墨烯层数:1,厚度(原理上):0.345毫微米,场效应管电子AI203迁移率:2,800cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率:3,500cm2/Vs,表面电阻:170欧姆平方米,晶粒尺寸:约10μm,横向电磁场网格:类型:多孔碳支持膜 ?R2/4,孔大小:2微米,孔间距:4微米,孔直径:3毫米,涂层:镀金。
企业名称
北京金骏达科技开发有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
91110102688388620A
成立日期
2009-04-15
注册资本
500万元
经营范围
技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务;货物进出口;技术进出口;代理进出口;经济信息咨询(不含中介服务);承办展览展示活动;会议服务;软件开发;销售仪器仪表、化妆品、五金交电、建筑材料、日用品、计算机、软件及辅助设备、机械设备、化工产品(不含一类易制毒化学品及危险品)、汽车配件、工艺品、针纺织品;销售食品.(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;销售食品以及依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
金骏升科技国际有限公司
公司地址
北京市朝阳区奥运媒体村天畅园8号楼1505室
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悬浮在横向电磁场网格上的单层石墨烯薄膜
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公司名称: 金骏升科技国际有限公司
公司地址: 北京市朝阳区奥运媒体村天畅园8号楼1505室 联系人: 杨晓勇 邮编: 100107 联系电话: 400-860-5168转2098
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